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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第56位 541件
（
2021年：第132位 313件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第112位 303件
（2021年：第117位 241件）
（ランキング更新日：2025年1月31日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2022-528697 | フォトレジストプロファイルを修正し、限界寸法を調整するための方法 | 2022年 6月15日 | |
| 特表 2022-528798 | 温度制御のための化学機械研磨温度スキャン装置 | 2022年 6月15日 | |
| 特開 2022-88395 | 基板内のポア形成 | 2022年 6月14日 | |
| 特表 2022-528160 | 印刷プロセスによって形成されるアニオン性研磨パッド | 2022年 6月 8日 | |
| 特開 2022-84597 | 一体化されたエピタキシと予洗浄システム | 2022年 6月 7日 | |
| 特開 2022-84609 | モジュラーマイクロ波源を使用した対称及び不規則なプラズマ | 2022年 6月 7日 | |
| 特開 2022-84630 | 静電チャックを使用した基板の固定と開放のための方法及び装置 | 2022年 6月 7日 | |
| 特開 2022-84788 | 保護金属オキシフッ化物コーティング | 2022年 6月 7日 | |
| 特表 2022-527693 | 金属間隙充填を形成するための方法 | 2022年 6月 3日 | |
| 特表 2022-527694 | 高アスペクト比の孔及び高い孔密度を有するガス分配プレート | 2022年 6月 3日 | |
| 特開 2022-80883 | 材料構造を改良するための処理 | 2022年 5月30日 | |
| 特表 2022-527005 | 光学デバイスのための多重深度膜 | 2022年 5月27日 | |
| 特開 2022-79472 | ＰＶＤスパッタチャンバ向けのバイアス可能なフラックスオプティマイザ／コリメータ | 2022年 5月26日 | |
| 特表 2022-526635 | マルチ深度光学デバイスのパターニング | 2022年 5月25日 | |
| 特開 2022-77978 | ダイナミックランダムアクセスメモリビット線金属を滑らかにするための方法及び装置 | 2022年 5月24日 |
541 件中 271-285 件を表示
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2022-528697 2022-528798 2022-88395 2022-528160 2022-84597 2022-84609 2022-84630 2022-84788 2022-527693 2022-527694 2022-80883 2022-527005 2022-79472 2022-526635 2022-77978
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