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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第42位 577件
(
2024年:第41位 605件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第34位 567件
(
2024年:第47位 555件)
(ランキング更新日:2026年5月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7761390 | アモルファスカーボン膜の分子層堆積 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7761580 | ホウ素と炭素フィルムの触媒形成 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7761626 | ペデスタル用のRF接地構成 | 2025年10月28日 | |
| 特許 7760045 | チャンバ制御のオートチューニング及び処理パフォーマンス評価のための方法 | 2025年10月24日 | |
| 特許 7758572 | 研磨プラテン及び研磨プラテンの製造方法 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758843 | プロセスチャンバを非接触で特性評価するための方法および機構 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7758861 | 高周波プラズマ処理チャンバ内の歪み電流の緩和 | 2025年10月22日 | |
| 特許 7757541 | パワーデバイス構造及びその製造方法 | 2025年10月21日 | |
| 特許 7756262 | SiO/SiN層交互エッチングプロセスのためのバイアス電圧調整アプローチ | 2025年10月17日 | |
| 特許 7755587 | 基板処理システムのためのイーサキャット液体流量コントローラ通信 | 2025年10月16日 | |
| 特許 7755601 | 窒素ドープされた炭素ハードマスクフィルム | 2025年10月16日 | |
| 特許 7755013 | 熱処理チャンバのエッジリング距離を測定する装置、システム、及び方法 | 2025年10月15日 | |
| 特許 7755044 | 底部誘電体絶縁層を形成する方法 | 2025年10月15日 | |
| 特許 7755048 | 基板の熱処理を補正するためのシステム、方法及び装置 | 2025年10月15日 | |
| 特許 7753315 | プロセスキットリング摩耗の検出器 | 2025年10月14日 |
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7761390 7761580 7761626 7760045 7758572 7758843 7758861 7757541 7756262 7755587 7755601 7755013 7755044 7755048 7753315
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