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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッド

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アプライド　マテリアルズ　インコーポレイテッドの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2025-509464	ＧａＮ成長のための基板処理	2025年 4月11日
特表 2025-509582	光壁プロセスセンサ（ＯＷＰＳ）を使用したプロセスの特徴付けおよび補正	2025年 4月11日
特表 2025-509584	光壁プロセスセンサ（ＯＷＰＳ）を使用したプロセスの特徴付けおよび補正	2025年 4月11日
特表 2025-509718	レーザ加工されたメサを有する静電チャック	2025年 4月11日
特表 2025-509740	メッキ均一性を調整するためにリソグラフィックパターンを改変するための方法および装置	2025年 4月11日
特表 2025-509742	小ピッチ充填用支持層	2025年 4月11日
特表 2025-509783	気相コーティングと液相コーティングとを使用して電荷層を形成するための方法	2025年 4月11日
特表 2025-509851	低温ｎ形コンタクトエピ形成	2025年 4月11日
特開 2025-60588	高屈折率ナノインプリントリソグラフィフィルムの密度を増加させるための方法	2025年 4月10日
特開 2025-60616	基板処理チャンバ向けのチャッキングのプロセス及びシステム	2025年 4月10日
特開 2025-60658	パッケージ製造のためのレーザアブレーションシステム	2025年 4月10日
特開 2025-60667	化学機械研磨における温度制御のための流体噴出中の気体の取り込み	2025年 4月10日
特開 2025-60669	炭素膜の選択的堆積及びその使用	2025年 4月10日
特開 2025-60676	多段階回転調節クロスフローを含むプラズマチャンバ	2025年 4月10日
特開 2025-60679	ホウ素がドープされたシリコン材料を利用した集積プロセス	2025年 4月10日

242 件中 106-120 件を表示

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2025-509464 2025-509582 2025-509584 2025-509718 2025-509740 2025-509742 2025-509783 2025-509851 2025-60588 2025-60616 2025-60658 2025-60667 2025-60669 2025-60676 2025-60679

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