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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2015-511405	マイクロリソグラフィのための投影露光方法及び投影露光装置	2015年 4月16日
特表 2015-511064	ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学ユニット及びそのような照明光学ユニットを含む光学系	2015年 4月13日
特表 2015-510683	基板の面処理のための装置及び方法	2015年 4月 9日
特表 2015-510694	マイクロリソグラフィ投影露光装置を作動させる方法及びそのような装置の投影対物系	2015年 4月 9日
特表 2015-510262	極端紫外線リソグラフィのための光学装置	2015年 4月 2日
特表 2015-509662	光学系の少なくとも１つの欠陥を補償する方法及び装置	2015年 3月30日
特表 2015-509285	マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法	2015年 3月26日
特開 2015-52797	結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置	2015年 3月19日
特表 2015-508231	ＥＵＶマイクロリソグラフィ用投影レンズ、フィルム素子及びフィルム素子を備える投影レンズの製造方法	2015年 3月16日
特開 2015-43418	マイクロリソグラフィ投影露光装置のための光学系	2015年 3月 5日
特開 2015-43454	光学システム、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム又は投影対物器械	2015年 3月 5日
特表 2015-506565	高電力レーザ光源からターゲット上への放射線のフォーカス誘導のためのビーム誘導系及びレーザ光源とそのようなビーム誘導系とを有するＬＰＰＸ線ビーム源	2015年 3月 2日
特開 2015-38975	投影リソグラフィのための照明光学ユニット	2015年 2月26日
特表 2015-505642	ミラー配置、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置で使用するミラー配置	2015年 2月23日
特表 2015-505169	特にマイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光影響光学配置	2015年 2月16日

83 件中 61-75 件を表示

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2015-511405 2015-511064 2015-510683 2015-510694 2015-510262 2015-509662 2015-509285 2015-52797 2015-508231 2015-43418 2015-43454 2015-506565 2015-38975 2015-505642 2015-505169

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