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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2020-197715	ＥＵＶ光学ユニットを有する計測システム	2020年12月10日
特表 2020-535425	光学素子の表面形状を特性化する方法及び装置	2020年12月 3日
特表 2020-535440	干渉計測システムの補償光学系	2020年12月 3日
特表 2020-535466	物体視野を像視野内に結像するための結像光学ユニット	2020年12月 3日
特表 2020-534565	ウェハ保持デバイス及び投影マイクロリソグラフィシステム（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ　ｓｙｓｔｅｍ）	2020年11月26日
特表 2020-534576	投影リソグラフィ用の投影露光装置の光学系の光学コンポーネントとしてのミラーを製造する方法	2020年11月26日
特表 2020-533190	光学素子の製造時に加工物を加工する方法	2020年11月19日
特開 2020-188007	質量分析によりガスを検査するための方法および質量分析計	2020年11月19日
特開 2020-188008	質量分析によりガスを検査するための方法および質量分析計	2020年11月19日
特開 2020-170192	光学素子の傾斜	2020年10月15日
特開 2020-170701	有質量粒子ビームの波面を決定するための方法および装置	2020年10月15日
特開 2020-149070	ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法	2020年 9月17日
特開 2020-140204	フォトリソグラフィマスクを修復するための装置および方法	2020年 9月 3日
特開 2020-129534	フォトリソグラフィマスク上の要素の位置を決定するための装置および方法	2020年 8月27日
特開 2020-122989	ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系	2020年 8月13日

36 件中 1-15 件を表示

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2020-197715 2020-535425 2020-535440 2020-535466 2020-534565 2020-534576 2020-533190 2020-188007 2020-188008 2020-170192 2020-170701 2020-149070 2020-140204 2020-129534 2020-122989

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