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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第754位 35件
（
2019年：第655位 45件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第450位 55件
（2019年：第385位 68件）
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2020-197715 | ＥＵＶ光学ユニットを有する計測システム | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-535466 | 物体視野を像視野内に結像するための結像光学ユニット | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535440 | 干渉計測システムの補償光学系 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535425 | 光学素子の表面形状を特性化する方法及び装置 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-534576 | 投影リソグラフィ用の投影露光装置の光学系の光学コンポーネントとしてのミラーを製造する方法 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-534565 | ウェハ保持デバイス及び投影マイクロリソグラフィシステム（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ ｍｉｃｒｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ ｓｙｓｔｅｍ） | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-533190 | 光学素子の製造時に加工物を加工する方法 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-188007 | 質量分析によりガスを検査するための方法および質量分析計 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-188008 | 質量分析によりガスを検査するための方法および質量分析計 | 2020年11月19日 | |
| 特開 2020-170701 | 有質量粒子ビームの波面を決定するための方法および装置 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-170192 | 光学素子の傾斜 | 2020年10月15日 | |
| 特開 2020-149070 | ＥＵＶマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法 | 2020年 9月17日 | |
| 特開 2020-140204 | フォトリソグラフィマスクを修復するための装置および方法 | 2020年 9月 3日 | |
| 特開 2020-129534 | フォトリソグラフィマスク上の要素の位置を決定するための装置および方法 | 2020年 8月27日 | |
| 特開 2020-122989 | ＥＵＶ投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 | 2020年 8月13日 |
36 件中 1-15 件を表示
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2020-197715 2020-535466 2020-535440 2020-535425 2020-534576 2020-534565 2020-533190 2020-188007 2020-188008 2020-170701 2020-170192 2020-149070 2020-140204 2020-129534 2020-122989
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