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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第628位 47件
（
2022年：第561位 54件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第631位 40件
（
2022年：第709位 35件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2023-182537 | 特にマイクロリソグラフィ用の、光学構成要素および光学系 | 2023年12月26日 | |
| 特開 2023-169127 | マルチビーム３Ｄ焦点生成器 | 2023年11月29日 | |
| 特表 2023-549968 | 視野ファセットシステム及びリソグラフィ装置 | 2023年11月29日 | |
| 特表 2023-549972 | 視野ファセットシステム及びリソグラフィ装置 | 2023年11月29日 | |
| 特表 2023-548723 | 製造方法及び測定方法 | 2023年11月21日 | |
| 特開 2023-165781 | 基板から単独の粒子を除去するための装置および方法 | 2023年11月17日 | |
| 特表 2023-547253 | 特にＥＵＶ放射線を反射するための光学素子、光学装置、及び光学素子を製造する方法 | 2023年11月 9日 | |
| 特開 2023-162126 | 特にマイクロリソグラフィのための光学系および光学系を動作するための方法 | 2023年11月 8日 | |
| 特表 2023-546667 | ＥＵＶスペクトル範囲用の２値強度マスク | 2023年11月 7日 | |
| 特表 2023-545694 | マイクロリソグラフィ用適応光学素子 | 2023年10月31日 | |
| 特表 2023-544441 | 半導体リソグラフィ用の投影露光装置のアクチュエータを測定する方法及び装置 | 2023年10月23日 | |
| 特表 2023-544176 | マイクロリソグラフィ用適応光学素子 | 2023年10月20日 | |
| 特表 2023-543850 | 光学素子を製造する方法、光学素子、光学素子を製造する装置、二次ガス、及び投影露光システム | 2023年10月18日 | |
| 特表 2023-543613 | 光学部品 | 2023年10月17日 | |
| 特開 2023-140338 | マスク修復のための方法および装置 | 2023年10月 4日 |
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2023-182537 2023-169127 2023-549968 2023-549972 2023-548723 2023-165781 2023-547253 2023-162126 2023-546667 2023-545694 2023-544441 2023-544176 2023-543850 2023-543613 2023-140338
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