特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第628位　47件（2022年：第561位　54件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第631位　40件（2022年：第709位　35件）

（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-182537	特にマイクロリソグラフィ用の、光学構成要素および光学系	2023年12月26日
特開 2023-169127	マルチビーム３Ｄ焦点生成器	2023年11月29日
特表 2023-549968	視野ファセットシステム及びリソグラフィ装置	2023年11月29日
特表 2023-549972	視野ファセットシステム及びリソグラフィ装置	2023年11月29日
特表 2023-548723	製造方法及び測定方法	2023年11月21日
特開 2023-165781	基板から単独の粒子を除去するための装置および方法	2023年11月17日
特表 2023-547253	特にＥＵＶ放射線を反射するための光学素子、光学装置、及び光学素子を製造する方法	2023年11月 9日
特開 2023-162126	特にマイクロリソグラフィのための光学系および光学系を動作するための方法	2023年11月 8日
特表 2023-546667	ＥＵＶスペクトル範囲用の２値強度マスク	2023年11月 7日
特表 2023-545694	マイクロリソグラフィ用適応光学素子	2023年10月31日
特表 2023-544441	半導体リソグラフィ用の投影露光装置のアクチュエータを測定する方法及び装置	2023年10月23日
特表 2023-544176	マイクロリソグラフィ用適応光学素子	2023年10月20日
特表 2023-543850	光学素子を製造する方法、光学素子、光学素子を製造する装置、二次ガス、及び投影露光システム	2023年10月18日
特表 2023-543613	光学部品	2023年10月17日
特開 2023-140338	マスク修復のための方法および装置	2023年10月 4日

48 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2023-182537 2023-169127 2023-549968 2023-549972 2023-548723 2023-165781 2023-547253 2023-162126 2023-546667 2023-545694 2023-544441 2023-544176 2023-543850 2023-543613 2023-140338

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数