特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第1005位　27件（2020年：第802位　35件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第862位　24件（2020年：第450位　55件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-189454	ＥＵＶ放射線源、ＥＵＶ放射線源のためのインサート、および、ＥＵＶ放射線源のためのインサートのためのインサート	2021年12月13日
特表 2021-531510	マイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー、及びデフォーマブルミラーの作動方法	2021年11月18日
特表 2021-530705	光学素子の表面形状を評価する方法及び装置	2021年11月11日
特表 2021-530733	フォトリソグラフィプロセスの要素の検査において統計的に分布した測定値を評価するための方法およびデバイス	2021年11月11日
特表 2021-530734	反射光学素子	2021年11月11日
特表 2021-529998	反射光学素子の基板	2021年11月 4日
特表 2021-530084	荷電粒子のビームを検査するための方法および装置	2021年11月 4日
特表 2021-528844	レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ	2021年10月21日
特表 2021-527240	フォトリソグラフィ用の要素を検査および／または処理するための装置および方法	2021年10月11日
特開 2021-152683	複数の個々に制御可能な書込ヘッドを含むリソグラフィ装置	2021年 9月30日
特開 2021-144211	フォトマスクを測定するための方法	2021年 9月24日
特表 2021-524033	コンポーネントの位置を周波数に基づいて決定する測定アセンブリ	2021年 9月 9日
特表 2021-523425	フォトリソグラフィプロセスの要素の欠陥の未知の影響を評価するための方法および装置	2021年 9月 2日
特開 2021-119393	光学面を研磨する方法及び光学素子	2021年 8月12日
特表 2021-516796	マスクを検査するための方法およびデバイス	2021年 7月 8日

28 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-189454 2021-531510 2021-530705 2021-530733 2021-530734 2021-529998 2021-530084 2021-528844 2021-527240 2021-152683 2021-144211 2021-524033 2021-523425 2021-119393 2021-516796

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数