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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第922位 27件
(
2020年:第754位 35件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第862位 24件
(
2020年:第450位 55件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2021-189454 | EUV放射線源、EUV放射線源のためのインサート、および、EUV放射線源のためのインサートのためのインサート | 2021年12月13日 | |
| 特表 2021-531510 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー、及びデフォーマブルミラーの作動方法 | 2021年11月18日 | |
| 特表 2021-530734 | 反射光学素子 | 2021年11月11日 | |
| 特表 2021-530733 | フォトリソグラフィプロセスの要素の検査において統計的に分布した測定値を評価するための方法およびデバイス | 2021年11月11日 | |
| 特表 2021-530705 | 光学素子の表面形状を評価する方法及び装置 | 2021年11月11日 | |
| 特表 2021-530084 | 荷電粒子のビームを検査するための方法および装置 | 2021年11月 4日 | |
| 特表 2021-529998 | 反射光学素子の基板 | 2021年11月 4日 | |
| 特表 2021-528844 | レーザの出力ビームのスペクトル帯域幅を減少させるための光学アセンブリ | 2021年10月21日 | |
| 特表 2021-527240 | フォトリソグラフィ用の要素を検査および/または処理するための装置および方法 | 2021年10月11日 | |
| 特開 2021-152683 | 複数の個々に制御可能な書込ヘッドを含むリソグラフィ装置 | 2021年 9月30日 | |
| 特開 2021-144211 | フォトマスクを測定するための方法 | 2021年 9月24日 | |
| 特表 2021-524033 | コンポーネントの位置を周波数に基づいて決定する測定アセンブリ | 2021年 9月 9日 | |
| 特表 2021-523425 | フォトリソグラフィプロセスの要素の欠陥の未知の影響を評価するための方法および装置 | 2021年 9月 2日 | |
| 特開 2021-119393 | 光学面を研磨する方法及び光学素子 | 2021年 8月12日 | |
| 特表 2021-516796 | マスクを検査するための方法およびデバイス | 2021年 7月 8日 |
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2021-189454 2021-531510 2021-530734 2021-530733 2021-530705 2021-530084 2021-529998 2021-528844 2021-527240 2021-152683 2021-144211 2021-524033 2021-523425 2021-119393 2021-516796
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