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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第366位 102件
(2015年:第425位 82件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第337位 92件
(2015年:第402位 64件)
(ランキング更新日:2025年5月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2016-541021 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2016年12月28日 | |
特開 2016-224460 | カタディオプトリック投影対物系 | 2016年12月28日 | |
特表 2016-540247 | 光学装置用支持装置、光学装置及びリソグラフィーシステム | 2016年12月22日 | |
特開 2016-218066 | マスクの表面を検査するための装置および方法 | 2016年12月22日 | |
特表 2016-539368 | 反射光学素子及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2016年12月15日 | |
特表 2016-539386 | リソグラフィーシステムの少なくとも1つのミラーの傾斜角を測定する装置及び方法 | 2016年12月15日 | |
特開 2016-212436 | 絞りを有する投影対物系 | 2016年12月15日 | |
特表 2016-538576 | 光学結像系の光学特性を測定する方法及び装置 | 2016年12月 8日 | |
特表 2016-537681 | EUV投影リソグラフィのための照明系 | 2016年12月 1日 | |
特開 2016-200818 | 投影レンズの少なくとも1つのマニピュレータを制御するための制御デバイス | 2016年12月 1日 | |
特表 2016-536653 | マイクロリソグラフィー投影露光装置用のミラー | 2016年11月24日 | |
特開 2016-197245 | ファセットミラーデバイス | 2016年11月24日 | |
特表 2016-535313 | EUV投影リソグラフィのための照明光学系及び照明系 | 2016年11月10日 | |
特表 2016-535314 | 照明系 | 2016年11月10日 | |
特開 2016-191936 | 変形可能な光学素子を有する光学装置 | 2016年11月10日 |
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2016-541021 2016-224460 2016-540247 2016-218066 2016-539368 2016-539386 2016-212436 2016-538576 2016-537681 2016-200818 2016-536653 2016-197245 2016-535313 2016-535314 2016-191936
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5月14日(水) -
5月15日(木) - 東京 港区
5月16日(金) - 東京 千代田区
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5月16日(金) - 東京 千代田区
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