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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第539位 67件
(2010年:第2457位 9件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第817位 34件
(2010年:第22882位 0件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2011-530820 | 低汚染光学装置 | 2011年12月22日 | |
特開 2011-248366 | 絞りを有する投影対物系 | 2011年12月 8日 | |
特開 2011-242770 | 光学構成体用の装置及び光学構成体の光学素子を位置決めする方法 | 2011年12月 1日 | |
特開 2011-238959 | 液浸リソグラフィー用投影対物レンズ | 2011年11月24日 | |
特表 2011-528856 | マイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光分布を修正する方法及びマイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2011年11月24日 | |
特表 2011-528857 | アクチュエータおよび投影露光システム | 2011年11月24日 | |
特開 2011-232751 | 調整可能な光学素子を有する光学モジュール | 2011年11月17日 | |
特開 2011-228699 | 反射光学要素、投影系及び投影露光装置 | 2011年11月10日 | |
特表 2011-528173 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2011年11月10日 | |
特表 2011-528181 | 変形可能な光学素子を有する光学装置 | 2011年11月10日 | |
特表 2011-528128 | 結像光学系 | 2011年11月10日 | |
特開 2011-228698 | 投影リソグラフィ用の照明光学系 | 2011年11月10日 | |
特表 2011-527416 | 反射性光学素子およびその製造方法 | 2011年10月27日 | |
特開 2011-211201 | 投影照明システムの光学装置用の位置合わせ方法 | 2011年10月20日 | |
特表 2011-526735 | 結像誤差の決定を行う光学結像装置 | 2011年10月13日 |
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2011-530820 2011-248366 2011-242770 2011-238959 2011-528856 2011-528857 2011-232751 2011-228699 2011-528173 2011-528181 2011-528128 2011-228698 2011-527416 2011-211201 2011-526735
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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