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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第655位 45件
(
2018年:第607位 45件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第385位 68件
(
2018年:第367位 75件)
(ランキング更新日:2026年10月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-535030 | EUVリソグラフィ用ミラーアレイのコンポーネント | 2019年12月 5日 | |
| 特表 2019-533835 | 微細構造化部品のマイクロリソグラフィ製造のための方法 | 2019年11月21日 | |
| 特表 2019-533813 | 走査プローブ顕微鏡及び走査プローブ顕微鏡の走査速度をステップイン走査モードで増大させる方法 | 2019年11月21日 | |
| 特表 2019-532350 | 光学系及び光学系を用いてマスク欠陥を補正する方法 | 2019年11月 7日 | |
| 特開 2019-179237 | リソグラフィマスクのフォーカス位置を決定する方法及びそのような方法を実行するための計測系 | 2019年10月17日 | |
| 特表 2019-530024 | マイクロリソグラフィのための投影露光方法および投影露光装置 | 2019年10月17日 | |
| 特開 2019-164351 | マイクロリソグラフィのための投影露光方法及び投影露光装置 | 2019年 9月26日 | |
| 特開 2019-164339 | リソグラフィマスクを測定するための結像光学ユニットの結像収差寄与を決定する方法 | 2019年 9月26日 | |
| 特表 2019-527380 | EUV投影リソグラフィのための投影光学ユニット | 2019年 9月26日 | |
| 特表 2019-526828 | 光学系、リソグラフィ装置および方法 | 2019年 9月19日 | |
| 特開 2019-159317 | 線幅の変動に対するリソグラフィマスクの構造非依存寄与を決定する方法 | 2019年 9月19日 | |
| 特開 2019-144569 | 反射光学素子及びマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2019年 8月29日 | |
| 特表 2019-523453 | EUVリソグラフィ用の反射光学素子 | 2019年 8月22日 | |
| 特表 2019-523437 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ投影装置 | 2019年 8月22日 | |
| 特表 2019-522819 | マイクロリソグラフィ照明ユニット | 2019年 8月15日 |
46 件中 1-15 件を表示
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2019-535030 2019-533835 2019-533813 2019-532350 2019-179237 2019-530024 2019-164351 2019-164339 2019-527380 2019-526828 2019-159317 2019-144569 2019-523453 2019-523437 2019-522819
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