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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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  2024年 出願公開件数ランキング    第492位 54件 上昇2023年:第628位 47件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第505位 45件 上昇2023年:第631位 40件)

(ランキング更新日:2024年11月11日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2024-155892 EUVマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定デバイスおよび方法 2024年10月31日
特開 2024-155893 EUVマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定装置および方法 2024年10月31日
特開 2024-153619 EUVリソグラフィ用マスクを検査するためのシステムおよび方法 2024年10月29日
特開 2024-153689 リソグラフィマスクの欠陥を修復する方法および装置 2024年10月29日
特開 2024-150447 破壊的干渉によって少なくとも1つの目標波長を抑制するための光回折構成要素 2024年10月23日
特開 2024-150511 測定又は検査装置及び表面を測定又は検査する方法 2024年10月23日
特開 2024-150524 VUV放射線を反射する光学素子及び光学装置 2024年10月23日
特表 2024-538115 EUVマルチミラー装置 2024年10月18日
特開 2024-147572 マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法 2024年10月16日
特表 2024-537351 試料を測定するための方法および本方法を実施する顕微鏡 2024年10月10日
特表 2024-535801 冷却流路を有する光学素子、及び光学装置 2024年10月 2日
特表 2024-534800 X線照射された物体を結像する(image)結像光学機構 2024年 9月26日
特表 2024-535045 DUVリソグラフィシステム 2024年 9月26日
特開 2024-127861 測定チャンバにおける配置のためのセンサー構成体、マスクを適切なものにするための装置、およびマスクを適切なものにするための方法 2024年 9月20日
特表 2024-533994 マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明装置で特に用いる光学コンポーネント群 2024年 9月18日

54 件中 1-15 件を表示

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2024-155892 2024-155893 2024-153619 2024-153689 2024-150447 2024-150511 2024-150524 2024-538115 2024-147572 2024-537351 2024-535801 2024-534800 2024-535045 2024-127861 2024-533994

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