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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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  2024年 出願公開件数ランキング    第471位 59件 上昇2023年:第628位 47件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第515位 46件 上昇2023年:第631位 40件)

(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2024-543141 フォトマスクに対する動作を較正するための方法および装置 2024年11月19日
特表 2024-542837 レンズ用のマウント、アセンブリ、リソグラフィシステム、および方法 2024年11月15日
特表 2024-542838 光学測定システムによる物体の照明および結像中の光学生成システムの照明および結像特性をシミュレートするための瞳絞り形状を最適化するための方法 2024年11月15日
特表 2024-541842 マルチミラーアレイ 2024年11月13日
特表 2024-541956 トポグラフィ情報を提供するための高解像度低エネルギー電子顕微鏡およびマスク検査方法 2024年11月13日
特開 2024-155892 EUVマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定デバイスおよび方法 2024年10月31日
特開 2024-155893 EUVマイクロリソグラフィ用のフォトマスクを検査するための測定装置および方法 2024年10月31日
特開 2024-153619 EUVリソグラフィ用マスクを検査するためのシステムおよび方法 2024年10月29日
特開 2024-153689 リソグラフィマスクの欠陥を修復する方法および装置 2024年10月29日
特開 2024-150447 破壊的干渉によって少なくとも1つの目標波長を抑制するための光回折構成要素 2024年10月23日
特開 2024-150511 測定又は検査装置及び表面を測定又は検査する方法 2024年10月23日
特開 2024-150524 VUV放射線を反射する光学素子及び光学装置 2024年10月23日
特表 2024-538115 EUVマルチミラー装置 2024年10月18日
特開 2024-147572 マイクロリソグラフィフォトマスクの欠陥の粒子ビーム誘起処理のための方法 2024年10月16日
特表 2024-537351 試料を測定するための方法および本方法を実施する顕微鏡 2024年10月10日

59 件中 1-15 件を表示

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2024-543141 2024-542837 2024-542838 2024-541842 2024-541956 2024-155892 2024-155893 2024-153619 2024-153689 2024-150447 2024-150511 2024-150524 2024-538115 2024-147572 2024-537351

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