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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第857位 32件
(2019年:第566位 60件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第516位 45件
(2019年:第384位 69件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6700238 | ガスセンサ及びその製造方法 | 2020年 5月27日 | |
特許 6695094 | 硫化亜鉛硬度の増大 | 2020年 5月20日 | |
特許 6697219 | 光酸発生共重合体および関連するフォトレジスト組成物、塗布基板、および電子デバイス形成方法 | 2020年 5月20日 | |
特許 6697498 | 酸開裂性モノマー及びこれを含むポリマー | 2020年 5月20日 | |
特許 6697574 | 光電子デバイス及び使用方法 | 2020年 5月20日 | |
特許 6687695 | 安定した無電解銅めっき組成物及び基板上に銅を無電解めっきするための方法 | 2020年 4月28日 | |
特許 6688798 | 負の光弾性定数を有するポリマー材料 | 2020年 4月28日 | |
特許 6688890 | 複合材料多層構造を作製する方法 | 2020年 4月28日 | |
特許 6689939 | 電気めっきされた銅 | 2020年 4月28日 | |
特許 6684354 | アミンとポリアクリルアミドとの反応生成物の化合物を含有する銅電気めっき浴 | 2020年 4月22日 | |
特許 6678220 | 電気めっき浴用の添加剤としてのビス無水物及びジアミンの反応生成物 | 2020年 4月 8日 | |
特許 6672464 | アミン及びキノンの反応生成物の化合物を含有する銅電気めっき浴 | 2020年 3月25日 | |
特許 6668311 | ポリアリーレン組成物及び方法 | 2020年 3月18日 | |
特許 6664440 | イオン性化合物を含むフォトレジスト | 2020年 3月13日 | |
特許 6660421 | アルギニンとビスエポキシドとのコポリマーを含むニッケル電気めっき組成物及びニッケルを電気めっきする方法 | 2020年 3月11日 |
57 件中 31-45 件を表示
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6700238 6695094 6697219 6697498 6697574 6687695 6688798 6688890 6689939 6684354 6678220 6672464 6668311 6664440 6660421
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