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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第857位 32件
(
2019年:第566位 60件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第516位 45件
(
2019年:第384位 69件)
(ランキング更新日:2025年12月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6649955 | ポリマー電荷移送層及びそれを収容する有機電子装置 | 2020年 2月19日 | |
| 特許 6646633 | 光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6647780 | 有機金属材料および方法 | 2020年 2月14日 | |
| 特許 6642980 | ジグリシジルエーテル末端ポリシロキサン化合物と非芳香族ポリアミンとのコポリマー | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6643411 | 湿式剥離性シリコン含有反射防止剤 | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6643448 | ギャップ充填方法 | 2020年 2月12日 | |
| 特許 6640189 | ベンゾシクロブテン置換カルバゾールを含有する組成物、及びそれを含む電子装置 | 2020年 2月 5日 | |
| 特許 6641092 | フォトレジストおよびその使用方法 | 2020年 2月 5日 | |
| 特許 6641325 | 液浸リソグラフィーのための組成物および方法 | 2020年 2月 5日 | |
| 特許 6641437 | 安定した無電解銅めっき組成物及び基板上に銅を無電解めっきするための方法 | 2020年 2月 5日 | |
| 特許 6637570 | 電気めっき浴用の添加剤としてのアミンモノマー及び飽和複素環部分を含有するポリマーの反応生成物 | 2020年 1月29日 | |
| 特許 6634234 | 下層組成物および下層を像形成する方法 | 2020年 1月22日 |
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6649955 6646633 6647780 6642980 6643411 6643448 6640189 6641092 6641325 6641437 6637570 6634234
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【大阪会場】 前田知財塾 ~スキルアップ編~ 知財の仕事を、もっと深く、もっと面白く! 第2回 「特許権侵害判断・回避構造の検討」
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