ホーム > 特許ランキング > ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. > 2022年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2022年 出願公開件数ランキング 第908位 29件
(2021年:第1005位 27件)
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第805位 30件
(2021年:第787位 27件)
(ランキング更新日:2025年6月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2022-81608 | ヨウ素含有光酸発生剤及びそれを含む組成物 | 2022年 5月31日 | |
特開 2022-73983 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 5月17日 | |
特開 2022-74080 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 5月17日 | |
特開 2022-70817 | フォトレジストパターントリミング組成物及びフォトレジストパターンをトリミングする方法 | 2022年 5月13日 | |
特開 2022-63239 | 高屈折率材料 | 2022年 4月21日 | |
特開 2022-53516 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 4月 5日 | |
特開 2022-43063 | 芳香族下層 | 2022年 3月15日 | |
特開 2022-41922 | フォトレジスト下層用のコーティング組成物 | 2022年 3月11日 | |
特開 2022-41925 | 下層組成物及びパターニング方法 | 2022年 3月11日 | |
特開 2022-37912 | 台形コアを有する導波路 | 2022年 3月 9日 | |
特開 2022-27541 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 2月10日 | |
特開 2022-23995 | 酸性水性銀-ニッケル合金電気めっき組成物及び方法 | 2022年 2月 8日 | |
特開 2022-19637 | フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 | 2022年 1月27日 | |
特開 2022-13856 | ビスベンゾシクロブテン配合物 | 2022年 1月18日 | |
特開 2022-3134 | 芳香族下層 | 2022年 1月11日 |
31 件中 16-30 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2022-81608 2022-73983 2022-74080 2022-70817 2022-63239 2022-53516 2022-43063 2022-41922 2022-41925 2022-37912 2022-27541 2022-23995 2022-19637 2022-13856 2022-3134
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.の知財の動向チェックに便利です。
6月10日(火) -
6月10日(火) -
6月11日(水) -
6月11日(水) -
6月12日(木) -
6月12日(木) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月13日(金) -
6月10日(火) -
6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
6月17日(火) -
6月17日(火) -
6月17日(火) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月16日(月) - 東京 大田
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定
東京都江戸川区西葛西3-13-2-501 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
新潟県新潟市東区新松崎3-22-15 ラフィネドミールⅡ-102 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟