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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第422位 98件 (2016年:第444位 78件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件 (2016年:第483位 58件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-516130 | マスクのための高密度位置合わせマップを生成するための方法、システム、およびコンピュータプログラム製品 | 2017年 6月15日 | |
特表 2017-516142 | ダイ対データベースのフォトマスク検査のための自動的な較正サンプルの選択 | 2017年 6月15日 | |
特表 2017-515097 | 射影画像を用いた自動インライン検査及び計測 | 2017年 6月 8日 | |
特表 2017-514271 | 光維持プラズマを形成するための開放プラズマランプ | 2017年 6月 1日 | |
特表 2017-514294 | オーバーレイエラーのフィードフォワードおよびフィードバック修正、根本原因分析および工程の制御の統計的オーバーレイエラーの予測 | 2017年 6月 1日 | |
特開 2017-96943 | 検査装置、コンピュータ装置および検査方法 | 2017年 6月 1日 | |
特開 2017-96981 | 独立的に調節可能な走査ピッチを有する表面走査検査システム | 2017年 6月 1日 | |
特開 2017-97369 | 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマEUV源 | 2017年 6月 1日 | |
特表 2017-512990 | イメージセンサ、検査システム及び製品を検査する方法 | 2017年 5月25日 | |
特表 2017-513188 | ナノ構造の反射防止層を有する光源 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-90467 | 高品質で安定した出力ビーム、および長寿命高変換効率の非線形結晶を備えたレーザ | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-83448 | パターン援用補正を用いる局所的位相アンラッピングの方法とシステム | 2017年 5月18日 | |
特開 2017-83860 | 光学的検査システム | 2017年 5月18日 | |
特表 2017-511880 | 明視野検査、暗視野検査、光熱検査を組み合わせた装置及び方法 | 2017年 4月27日 | |
特表 2017-511504 | スキャタロメトリ計測法を用いた焦点測定 | 2017年 4月20日 |
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2017-516130 2017-516142 2017-515097 2017-514271 2017-514294 2017-96943 2017-96981 2017-97369 2017-512990 2017-513188 2017-90467 2017-83448 2017-83860 2017-511880 2017-511504
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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