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ケーエルエー−テンカー コーポレイション

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  2017年 出願公開件数ランキング    第422位 98件 上昇2016年:第444位 78件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第472位 54件 上昇2016年:第483位 58件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特表 2017-516130 マスクのための高密度位置合わせマップを生成するための方法、システム、およびコンピュータプログラム製品 2017年 6月15日
特表 2017-516142 ダイ対データベースのフォトマスク検査のための自動的な較正サンプルの選択 2017年 6月15日
特表 2017-515097 射影画像を用いた自動インライン検査及び計測 2017年 6月 8日
特表 2017-514271 光維持プラズマを形成するための開放プラズマランプ 2017年 6月 1日
特表 2017-514294 オーバーレイエラーのフィードフォワードおよびフィードバック修正、根本原因分析および工程の制御の統計的オーバーレイエラーの予測 2017年 6月 1日
特開 2017-96943 検査装置、コンピュータ装置および検査方法 2017年 6月 1日
特開 2017-96981 独立的に調節可能な走査ピッチを有する表面走査検査システム 2017年 6月 1日
特開 2017-97369 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマEUV源 2017年 6月 1日
特表 2017-512990 イメージセンサ、検査システム及び製品を検査する方法 2017年 5月25日
特表 2017-513188 ナノ構造の反射防止層を有する光源 2017年 5月25日
特開 2017-90467 高品質で安定した出力ビーム、および長寿命高変換効率の非線形結晶を備えたレーザ 2017年 5月25日
特開 2017-83448 パターン援用補正を用いる局所的位相アンラッピングの方法とシステム 2017年 5月18日
特開 2017-83860 光学的検査システム 2017年 5月18日
特表 2017-511880 明視野検査、暗視野検査、光熱検査を組み合わせた装置及び方法 2017年 4月27日
特表 2017-511504 スキャタロメトリ計測法を用いた焦点測定 2017年 4月20日

98 件中 61-75 件を表示

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2017-516130 2017-516142 2017-515097 2017-514271 2017-514294 2017-96943 2017-96981 2017-97369 2017-512990 2017-513188 2017-90467 2017-83448 2017-83860 2017-511880 2017-511504

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