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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第422位 98件
（
2016年：第444位 78件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
（2016年：第483位 58件）
（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-504801 | 極端紫外線（ＥＵＶ）検査システム | 2017年 2月 9日 | |
| 特開 2017-32589 | 欠陥に関係する用途のための三次元表現の使用 | 2017年 2月 9日 | |
| 特表 2017-504014 | 位置敏感基板デバイス | 2017年 2月 2日 | |
| 特表 2017-504199 | 非接触式ウェハチャッキングのためのシステム及び方法 | 2017年 2月 2日 | |
| 特表 2017-503344 | サブ２００ｎｍレーザ励起等核エキシマレーザ | 2017年 1月26日 | |
| 特表 2017-502347 | マスク上の構造体の位置を測定し、それによってマスク製造誤差を決定する方法 | 2017年 1月19日 | |
| 特表 2017-502499 | ウェハ検査プロセスの１つ以上のパラメータを決定するための方法、コンピュータ読み出し可能な媒体およびシステム | 2017年 1月19日 | |
| 特表 2017-502500 | 欠陥を分類するための方法およびウエハ検査ツール | 2017年 1月19日 |
98 件中 91-98 件を表示
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2017-504801 2017-32589 2017-504014 2017-504199 2017-503344 2017-502347 2017-502499 2017-502500
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