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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第363位 103件 (2017年:第422位 98件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第358位 78件 (2017年:第472位 54件)
(ランキング更新日:2024年11月22日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2018-28670 | EUVマスク検査システムの光学系の波面収差計測 | 2018年 2月22日 | |
特表 2018-504641 | ペリクルを通したフォトマスクの描画方法およびシステム | 2018年 2月15日 | |
特表 2018-504768 | ウェハ欠陥発見 | 2018年 2月15日 | |
特表 2018-504772 | 高次元変数選択モデルを使用した重要なパラメータの決定 | 2018年 2月15日 | |
特表 2018-504786 | 高スループットワークインプロセスバッファ用のシステム及び方法 | 2018年 2月15日 | |
特表 2018-503575 | 反転装置、物品処理システム及び方法 | 2018年 2月 8日 | |
特表 2018-503244 | 検出増強型検査システム及び技術 | 2018年 2月 1日 | |
特表 2018-502441 | 自動式パターン忠実度測定計画生成 | 2018年 1月25日 | |
特表 2018-502457 | ビルトインターゲットを用いた検査対デザイン位置揃え | 2018年 1月25日 | |
特表 2018-501646 | プロセスウィンドウキャラクタライゼーションのための仮想検査システム | 2018年 1月18日 | |
特開 2018-9995 | ウェハの欠陥検出 | 2018年 1月18日 | |
特表 2018-500601 | プラズマベース光源 | 2018年 1月11日 | |
特開 2018-6775 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法 | 2018年 1月11日 |
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2018-28670 2018-504641 2018-504768 2018-504772 2018-504786 2018-503575 2018-503244 2018-502441 2018-502457 2018-501646 2018-9995 2018-500601 2018-6775
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11月22日(金) -
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11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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