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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第363位 103件
(2017年:第422位 98件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第358位 78件
(2017年:第472位 54件)
(ランキング更新日:2025年2月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2018-530872 | マルチビーム暗視野撮像 | 2018年10月18日 | |
特表 2018-530911 | 自発的計測法及びパターン分類 | 2018年10月18日 | |
特表 2018-530912 | 半導体ウエハ検査のためのイメージング性能を最適化する方法 | 2018年10月18日 | |
特開 2018-163175 | 検出感度改善のための検査ビームの成形 | 2018年10月18日 | |
特表 2018-529952 | 補助電磁場の導入に基づく1次スキャトロメトリオーバーレイでの新たなアプローチ | 2018年10月11日 | |
特表 2018-530116 | レーザ維持プラズマ照明システム及び方法 | 2018年10月11日 | |
特表 2018-530146 | レーザ暗視野システムにおけるスペックル抑圧方法及び装置 | 2018年10月11日 | |
特開 2018-160676 | 試験体の測定または分析のためのシステムおよび方法 | 2018年10月11日 | |
特表 2018-529088 | 半導体マスク検査のためのポリゴンベースの幾何学的分類 | 2018年10月 4日 | |
特表 2018-529188 | 電子源 | 2018年10月 4日 | |
特表 2018-528568 | 高効率レーザー維持プラズマ光源 | 2018年 9月27日 | |
特表 2018-528596 | マルチビーム走査型電子顕微鏡におけるノイズ緩和方法及びシステム | 2018年 9月27日 | |
特開 2018-151672 | フォトリソグラフィ用レチクルを検査するための検査システム及び方法 | 2018年 9月27日 | |
特開 2018-152603 | レーザのスペクトル帯域幅の低減 | 2018年 9月27日 | |
特表 2018-527619 | モデルベースの限界寸法測定の技術およびシステム | 2018年 9月20日 |
103 件中 16-30 件を表示
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2018-530872 2018-530911 2018-530912 2018-163175 2018-529952 2018-530116 2018-530146 2018-160676 2018-529088 2018-529188 2018-528568 2018-528596 2018-151672 2018-152603 2018-527619
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2月17日(月) - 大阪 大阪市
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パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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(オンライン参加可)体験談から学ぶ知的財産権 その時どうする?~海外で商標権がバッティング?オープンファクトリーの知財リスク?~
2月25日(火) -
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