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ケーエルエー−テンカー コーポレイション

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  2018年 出願公開件数ランキング    第363位 103件 上昇2017年:第422位 98件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第358位 78件 上昇2017年:第472位 54件)

(ランキング更新日:2026年5月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-66743 照射サブシステム 2018年 4月26日
特表 2018-510376 オール反射ウェハ欠陥検査及びレビューシステム及び方法 2018年 4月12日
特表 2018-509741 像ビームの安定化及び識別性が改善された荷電粒子顕微システム及び方法 2018年 4月 5日
特表 2018-509752 焦点体積方法を用いたウェーハ検査 2018年 4月 5日
特表 2018-508936 レーザ維持プラズマ光源の放射性輻射を阻害するシステム及び方法 2018年 3月29日
特表 2018-508995 フォーカスエラー感応性が減少した光学的計測 2018年 3月29日
特開 2018-49840 プラズマセル内の対流を制御するための方法及びシステム 2018年 3月29日
特開 2018-49846 ホウ素層を有するシリコン基板を含むフォトカソード 2018年 3月29日
特表 2018-508125 歪んだウェハをチャッキングするための装置および方法 2018年 3月22日
特開 2018-46285 反射電子ビームリソグラフィ用リニアステージ 2018年 3月22日
特開 2018-41103 周波数変換結晶アニール方法 2018年 3月15日
特表 2018-506843 半導体検査及び度量衡用ラインスキャンナイフエッジ高さセンサ 2018年 3月 8日
特開 2018-37425 レーザ維持プラズマバルブのための気体屈折補償 2018年 3月 8日
特表 2018-506168 サンプリング及びフィーチャ選択を伴わない自動欠陥分類 2018年 3月 1日
特表 2018-505388 ウェハにおける臨界寸法問題及びパターン不良の干渉法を用いた予測及び制御 2018年 2月22日

103 件中 76-90 件を表示

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2018-66743 2018-510376 2018-509741 2018-509752 2018-508936 2018-508995 2018-49840 2018-49846 2018-508125 2018-46285 2018-41103 2018-506843 2018-37425 2018-506168 2018-505388

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