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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第311位 105件
（
2023年：第332位 104件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件
（2023年：第343位 92件）
（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-546548 | ４点傾斜整列ウェハチャック | 2024年12月26日 | |
| 特開 2024-177408 | 設定可能焦点オフセットによって試料表面を追跡するための自動焦点調節システム | 2024年12月19日 | |
| 特開 2024-175033 | 透過型小角Ｘ線散乱計量システム及び方法 | 2024年12月17日 | |
| 特表 2024-545835 | 複数の空間周波数を有するオーバレイターゲットを使用した走査オーバレイ計測 | 2024年12月13日 | |
| 特表 2024-544813 | 瞳偏光フィルタリングのための波長板 | 2024年12月 5日 | |
| 特表 2024-542909 | 回折に基づく重ね合わせ誤差計測の改良された目標 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-542908 | 対向櫛型非線形結晶グレーティングを用いる周波数変換 | 2024年11月19日 | |
| 特表 2024-542341 | モノリシック光学リターダ | 2024年11月15日 | |
| 特表 2024-542340 | 周波数変換に四硼酸ストロンチウムを用いる深紫外レーザ | 2024年11月15日 | |
| 特開 2024-159775 | 特性評価システム | 2024年11月 8日 | |
| 特表 2024-539805 | 半導体製造のための連続機械学習モデルトレーニング | 2024年10月31日 | |
| 特開 2024-153787 | 非線形光学結晶の不活性化方法 | 2024年10月29日 | |
| 特表 2024-539530 | 電磁コイルの均一な冷却のためのシステムおよび方法 | 2024年10月29日 | |
| 特表 2024-538857 | 並列散乱計測オーバーレイ計測 | 2024年10月24日 | |
| 特表 2024-538474 | 改善されたオーバーレイ誤差計測のための誘起変位 | 2024年10月23日 |
105 件中 1-15 件を表示
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2024-546548 2024-177408 2024-175033 2024-545835 2024-544813 2024-542909 2024-542908 2024-542341 2024-542340 2024-159775 2024-539805 2024-153787 2024-539530 2024-538857 2024-538474
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