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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第330位 39件
（
2024年：第311位 105件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第254位 51件
（
2024年：第286位 108件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-16787 | 拡張赤外分光エリプソメトリ方法 | 2025年 2月 4日 | |
| 特表 2025-503363 | 小さなターゲットを使用して校正されるオーバーレイ誤差の測定 | 2025年 2月 4日 | |
| 特開 2025-15762 | ３Ｄデバイスの検査およびレビューのための電子ビームシステム | 2025年 1月30日 | |
| 特表 2025-502583 | 用途特化半導体計測システムパラメータ設定の最適化を正則化する方法及びシステム | 2025年 1月28日 | |
| 特開 2025-13640 | 複数の測定列を用いた大規模オーバレイ計測サンプリング | 2025年 1月24日 | |
| 特表 2025-501839 | 半導体測定品質の標的モニタリングのための方法及びシステム | 2025年 1月24日 | |
| 特開 2025-10600 | 電子ビームエミッタ装置 | 2025年 1月22日 | |
| 特開 2025-10251 | 半導体デバイスの位置ずれを測定する多層モアレ標的およびその使用方法 | 2025年 1月20日 | |
| 特開 2025-3695 | 走査計量学のための計量学ターゲット | 2025年 1月 9日 |
39 件中 31-39 件を表示
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2025-16787 2025-503363 2025-15762 2025-502583 2025-13640 2025-501839 2025-10600 2025-10251 2025-3695
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