特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2018-521354	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2018年 8月 2日
特表 2018-521444	測定装置及び方法	2018年 8月 2日
特表 2018-520374	リソグラフィ方法及び装置	2018年 7月26日
特表 2018-520378	基板サポート、基板の上面の非平坦性を補償する方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2018年 7月26日
特表 2018-520381	リソグラフィ装置、投影システム、最終レンズ素子、液体制御部材及びデバイス製造方法	2018年 7月26日
特表 2018-520387	リソグラフィ装置におけるパターニングデバイス冷却システム	2018年 7月26日
特開 2018-116300	リソグラフィ方法および装置	2018年 7月26日
特開 2018-117153	基板ホルダ及び基板ホルダ製造方法	2018年 7月26日
特表 2018-519543	相互レシピ整合性に基づくレシピ選択	2018年 7月19日
特表 2018-519547	膜アセンブリを製造するための方法	2018年 7月19日
特表 2018-519551	リソグラフィ装置及び方法	2018年 7月19日
特表 2018-518701	リソグラフィ装置及び基板をロードするための方法	2018年 7月12日
特表 2018-517920	メトロロジ方法及び装置、コンピュータプログラム、並びにリソグラフィシステム	2018年 7月 5日
特表 2018-517923	リソグラフィ装置及びリソグラフィプロセスにおける方法	2018年 7月 5日
特表 2018-517933	アライメントシステム	2018年 7月 5日

128 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2018-521354 2018-521444 2018-520374 2018-520378 2018-520381 2018-520387 2018-116300 2018-117153 2018-519543 2018-519547 2018-519551 2018-518701 2018-517920 2018-517923 2018-517933

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数