特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

（ランキング更新日：2025年4月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6444353	リトグラフ装置	2018年12月26日
特許 6444454	リソグラフィ装置	2018年12月26日
特許 6444674	レーザ作動光源	2018年12月26日
特許 6445148	リソグラフィツール用のコンポーネント、リソグラフィ装置、検査ツール、及びデバイス製造の方法	2018年12月26日
特許 6446133	アクチュエータ、位置決め装置、リソグラフィ装置、およびアクチュエータの製造方法	2018年12月26日
特許 6438412	リソグラフィ装置のための投影システム、ミラーおよび放射源	2018年12月12日
特許 6433504	ターゲット構成の最適化及び関連するターゲット	2018年12月 5日
特許 6434515	放射システム及びリソグラフィ装置	2018年12月 5日
特許 6434582	リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2018年12月 5日
特許 6435338	放射源、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、センサシステム及びセンシング方法	2018年12月 5日
特許 6429989	リソグラフィ装置及び方法	2018年11月28日
特許 6425567	流体ハンドリング構造	2018年11月21日
特許 6426204	対象物位置決めシステム、制御システム、リソグラフィ装置、対象物位置決め方法およびデバイス製造方法	2018年11月21日
特許 6423430	レーザ生成プラズマＥＵＶ光源におけるソース材料送出の装置	2018年11月14日
特許 6417418	電子入射器、自由電子レーザ、リソグラフィシステム、電子ビーム生成方法、及び放射生成方法	2018年11月 7日

105 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6444353 6444454 6444674 6445148 6446133 6438412 6433504 6434515 6434582 6435338 6429989 6425567 6426204 6423430 6417418

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数