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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第314位 124件
(2017年:第379位 113件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第281位 102件
(2017年:第305位 95件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6444353 | リトグラフ装置 | 2018年12月26日 | |
特許 6444454 | リソグラフィ装置 | 2018年12月26日 | |
特許 6444674 | レーザ作動光源 | 2018年12月26日 | |
特許 6445148 | リソグラフィツール用のコンポーネント、リソグラフィ装置、検査ツール、及びデバイス製造の方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6446133 | アクチュエータ、位置決め装置、リソグラフィ装置、およびアクチュエータの製造方法 | 2018年12月26日 | |
特許 6438412 | リソグラフィ装置のための投影システム、ミラーおよび放射源 | 2018年12月12日 | |
特許 6433504 | ターゲット構成の最適化及び関連するターゲット | 2018年12月 5日 | |
特許 6434515 | 放射システム及びリソグラフィ装置 | 2018年12月 5日 | |
特許 6434582 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2018年12月 5日 | |
特許 6435338 | 放射源、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、センサシステム及びセンシング方法 | 2018年12月 5日 | |
特許 6429989 | リソグラフィ装置及び方法 | 2018年11月28日 | |
特許 6425567 | 流体ハンドリング構造 | 2018年11月21日 | |
特許 6426204 | 対象物位置決めシステム、制御システム、リソグラフィ装置、対象物位置決め方法およびデバイス製造方法 | 2018年11月21日 | |
特許 6423430 | レーザ生成プラズマEUV光源におけるソース材料送出の装置 | 2018年11月14日 | |
特許 6417418 | 電子入射器、自由電子レーザ、リソグラフィシステム、電子ビーム生成方法、及び放射生成方法 | 2018年11月 7日 |
105 件中 1-15 件を表示
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6444353 6444454 6444674 6445148 6446133 6438412 6433504 6434515 6434582 6435338 6429989 6425567 6426204 6423430 6417418
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2月21日(金) - 東京 千代田区
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2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
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2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
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2月26日(水) - 千葉 船橋市
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2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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