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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第314位　124件（2017年：第379位　113件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第281位　102件（2017年：第305位　95件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-60234	リソグラフィ装置および方法	2018年 4月12日
特表 2018-509609	メトロロジ方法、メトロロジ装置、及びデバイス製造装置	2018年 4月 5日
特表 2018-509651	レジスト変形を決定するための方法	2018年 4月 5日
特表 2018-508822	放射システム	2018年 3月29日
特表 2018-508829	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2018年 3月29日
特表 2018-508049	リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置	2018年 3月22日
特開 2018-46304	ＥＵＶ光源内のシードレーザをブラッグＡＯＭで保護するためのシステム及び方法	2018年 3月22日
特表 2018-507437	放射源	2018年 3月15日
特表 2018-507438	メトロロジの方法及び装置、コンピュータプログラム、並びにリソグラフィシステム	2018年 3月15日
特開 2018-41110	レーザ生成プラズマＥＵＶ光源	2018年 3月15日
特表 2018-506164	レーザシステム内の利得エレメントを隔離するためのシステム及び方法	2018年 3月 1日
特開 2018-32047	リソグラフィ装置	2018年 3月 1日
特開 2018-25823	リソグラフィパターニングプロセスおよび同プロセス内で使用するレジスト	2018年 2月15日
特開 2018-22196	リソグラフィ装置用の汚染トラップ	2018年 2月 8日
特表 2018-502315	極端紫外線光源のための可変半径ミラーダイクロイックビームスプリッタモジュール	2018年 1月25日

128 件中 106-120 件を表示

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2018-60234 2018-509609 2018-509651 2018-508822 2018-508829 2018-508049 2018-46304 2018-507437 2018-507438 2018-41110 2018-506164 2018-32047 2018-25823 2018-22196 2018-502315

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2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数

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