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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第314位 124件
（
2017年：第379位 113件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第281位 102件
（2017年：第305位 95件）
（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2018-502327 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、レジスト組成物の製造方法、ペロブスカイト材料のリソグラフィプロセスへの使用およびレジスト組成物で被覆された基板 | 2018年 1月25日 | |
| 特表 2018-501508 | リソグラフィ方法及び装置 | 2018年 1月18日 | |
| 特表 2018-501511 | リソグラフィ製造プロセスに関する診断情報を取得するための方法および装置、診断装置を含むリソグラフィックプロセシングシステム | 2018年 1月18日 | |
| 特表 2018-500590 | 熱調節方法 | 2018年 1月11日 | |
| 特表 2018-500591 | ファセット付きＥＵＶ光学素子 | 2018年 1月11日 | |
| 特表 2018-500597 | 不均一なガス流によるレチクル冷却 | 2018年 1月11日 | |
| 特表 2018-500598 | レベルセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2018年 1月11日 | |
| 特表 2018-500600 | 基板モデルパラメータを計算およびリソグラフィプロセスを制御する方法および装置 | 2018年 1月11日 |
128 件中 121-128 件を表示
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2018-502327 2018-501508 2018-501511 2018-500590 2018-500591 2018-500597 2018-500598 2018-500600
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