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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第314位 124件
(2017年:第379位 113件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第281位 102件
(2017年:第305位 95件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2018-156097 | リソグラフィ装置 | 2018年10月 4日 | |
特開 2018-156100 | 露光装置 | 2018年10月 4日 | |
特表 2018-528456 | リソグラフィ装置及び方法 | 2018年 9月27日 | |
特表 2018-528462 | リソグラフィ装置を制御するための方法、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2018年 9月27日 | |
特表 2018-527599 | 制御システム、位置決めシステム、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2018年 9月20日 | |
特表 2018-527612 | リソグラフィ装置のための抑制フィルタ、放射コレクタ及び放射源、並びに抑制フィルタの少なくとも2つの反射面レベル間の分離距離を決定する方法 | 2018年 9月20日 | |
特表 2018-527630 | リソグラフィ装置、リソグラフィアライメント方法およびデータ処理システム | 2018年 9月20日 | |
特開 2018-146977 | 放射を発生させる方法及び装置 | 2018年 9月20日 | |
特開 2018-146988 | レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット | 2018年 9月20日 | |
特表 2018-526674 | リソグラフィプロセスのパラメータを測定するための方法及び装置、並びにこの方法で使用される基板及びパターニングデバイス | 2018年 9月13日 | |
特表 2018-526676 | 膜アセンブリを製造する方法 | 2018年 9月13日 | |
特開 2018-142006 | メトロロジ方法および装置、リソグラフィシステムならびにデバイス製造方法 | 2018年 9月13日 | |
特表 2018-525666 | LPP EUV光源におけるソースレーザの発射を制御するためのシステム及び方法 | 2018年 9月 6日 | |
特開 2018-139005 | 検査方法、リソグラフィ装置、マスクおよび基板 | 2018年 9月 6日 | |
特表 2018-524580 | ガスゲージを有する装置およびそれを作動させる方法 | 2018年 8月30日 |
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2018-156097 2018-156100 2018-528456 2018-528462 2018-527599 2018-527612 2018-527630 2018-146977 2018-146988 2018-526674 2018-526676 2018-142006 2018-525666 2018-139005 2018-524580
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6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
6月16日(月) - 東京 大田
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