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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第237位　122件（2019年：第255位　108件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-535631	複数の荷電粒子ビームを用いてサンプルを検査する方法	2020年12月 3日
特開 2020-194178	極端紫外光源におけるターゲット膨張率制御	2020年12月 3日
特開 2020-194185	基板支持部、リソグラフィ装置、およびローディング方法	2020年12月 3日
特表 2020-534557	フォトリソグラフィシステムの圧力容器内のシールを保護するための方法及び装置	2020年11月26日
特表 2020-534558	パターニングプロセス制御方法、デバイス製造方法	2020年11月26日
特表 2020-534559	放射源	2020年11月26日
特表 2020-534562	放射源	2020年11月26日
特表 2020-534580	パターニングプロセスパラメータを決定する方法	2020年11月26日
特表 2020-534638	荷電粒子ビーム装置及びその装置を動作させるシステム及び方法	2020年11月26日
特表 2020-534640	ビーム画像システムのためのスイッチマトリクス設計	2020年11月26日
特表 2020-534641	フィールドプログラマブル検出器アレイ	2020年11月26日
特表 2020-534674	リソグラフィ装置のための制御システム	2020年11月26日
特開 2020-190742	リソグラフィ装置	2020年11月26日
特表 2020-533609	リソグラフィプロセスにおける計測	2020年11月19日
特表 2020-533621	オーバーレイを推定するための方法	2020年11月19日

140 件中 16-30 件を表示

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2020-535631 2020-194178 2020-194185 2020-534557 2020-534558 2020-534559 2020-534562 2020-534580 2020-534638 2020-534640 2020-534641 2020-534674 2020-190742 2020-533609 2020-533621

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