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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件
（
2019年：第272位 151件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件
（
2019年：第255位 108件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-524292 | 極端紫外線光源のための供給システム | 2020年 8月13日 | |
| 特表 2020-524294 | センサ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2020年 8月13日 | |
| 特開 2020-122973 | ＲＦプラズマ電界を使用したＥＵＶ光学部品のアクティブ洗浄装置および方法 | 2020年 8月13日 | |
| 特開 2020-122975 | マスクアセンブリ及び関連する方法 | 2020年 8月13日 | |
| 特表 2020-523618 | アクチュエータ、リニアモータ及びリソグラフィ装置 | 2020年 8月 6日 | |
| 特表 2020-523622 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2020年 8月 6日 | |
| 特表 2020-523624 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ方法 | 2020年 8月 6日 | |
| 特開 2020-118983 | リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法 | 2020年 8月 6日 | |
| 特表 2020-522727 | アライメントの測定のためのシステム及び方法 | 2020年 7月30日 | |
| 特表 2020-522729 | アライメント測定システム | 2020年 7月30日 | |
| 特表 2020-522732 | サポートテーブルから物体をアンロードする方法 | 2020年 7月30日 | |
| 特開 2020-115237 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2020年 7月30日 | |
| 特表 2020-521998 | 放射源 | 2020年 7月27日 | |
| 特表 2020-522020 | パーティクル除去装置および関連システム | 2020年 7月27日 | |
| 特開 2020-112827 | メトロロジー方法、ターゲット、及び基板 | 2020年 7月27日 |
140 件中 61-75 件を表示
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2020-524292 2020-524294 2020-122973 2020-122975 2020-523618 2020-523622 2020-523624 2020-118983 2020-522727 2020-522729 2020-522732 2020-115237 2020-521998 2020-522020 2020-112827
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