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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第286位　138件（2019年：第272位　151件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第237位　122件（2019年：第255位　108件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-521156	制御システム、制御システムの帯域幅を増加させる方法、及びリソグラフィ装置	2020年 7月16日
特表 2020-521157	基板及び基板を使用する方法	2020年 7月16日
特表 2020-521158	ターゲットを測定する方法、メトロロジ装置、リソグラフィセル及びターゲット	2020年 7月16日
特表 2020-521179	セットポイントジェネレータ、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置の操作方法、及びデバイス製造方法	2020年 7月16日
特開 2020-106866	極端紫外線光源用のターゲット	2020年 7月 9日
特表 2020-519924	ＥＵＶ光源においてデブリを制御するための装置及び方法	2020年 7月 2日
特表 2020-519927	メトロロジセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法	2020年 7月 2日
特表 2020-519928	構造を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、及びデバイス製造方法	2020年 7月 2日
特表 2020-519932	製品ユニットの製造プロセスのシーケンスの最適化	2020年 7月 2日
特表 2020-519934	レーザ生成プラズマ源	2020年 7月 2日
特表 2020-518846	メトロロジセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法	2020年 6月25日
特表 2020-518848	メトロロジパラメータ決定及びメトロロジレシピ選択	2020年 6月25日
特表 2020-517980	支持構造、方法、及びリソグラフィ装置	2020年 6月18日
特表 2020-518000	プロセスフィンガープリントのセットを維持する方法	2020年 6月18日
特表 2020-518092	荷電粒子の複数のビームを使用した装置	2020年 6月18日

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2020-521156 2020-521157 2020-521158 2020-521179 2020-106866 2020-519924 2020-519927 2020-519928 2020-519932 2020-519934 2020-518846 2020-518848 2020-517980 2020-518000 2020-518092

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