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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第237位　122件（2019年：第255位　108件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-533622	パターニングプロセスパラメータを決定するための方法及びメトロロジ装置	2020年11月19日
特表 2020-533625	リソグラフィ装置及び方法	2020年11月19日
特表 2020-533643	一組の相補的回折パターンを位置合わせする方法および関連する測定方法および装置	2020年11月19日
特表 2020-533730	荷電粒子の複数のビームを用いたサンプル検査の方法	2020年11月19日
特表 2020-532759	メトロロジ方法及び装置	2020年11月12日
特表 2020-532822	電子ビーム検査装置のステージ位置決め	2020年11月12日
特表 2020-531889	アライメント測定システム	2020年11月 5日
特表 2020-531894	材料経路を進む材料を捕捉するためのレセプタクル	2020年11月 5日
特開 2020-181200	基板テーブル、リソグラフィ装置、及びリソグラフィ装置を操作する方法	2020年11月 5日
特開 2020-181212	マスクアセンブリ	2020年11月 5日
特表 2020-530582	パターニングプロセスパラメータを決定する方法	2020年10月22日
特開 2020-174046	複数の荷電粒子ビームの装置	2020年10月22日
特表 2020-530203	荷電粒子遮断要素、このような要素を備えた露光装置、及びこのような露光装置を使用する方法	2020年10月15日
特表 2020-529635	振動絶縁システムおよびリソグラフィ装置	2020年10月 8日
特表 2020-529036	局所熱処理による多層グラフェンペリクルの同時両面コーティング	2020年10月 1日

140 件中 31-45 件を表示

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2020-533622 2020-533625 2020-533643 2020-533730 2020-532759 2020-532822 2020-531889 2020-531894 2020-181200 2020-181212 2020-530582 2020-174046 2020-530203 2020-529635 2020-529036

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