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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第286位　138件（2019年：第272位　151件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-516942	リソグラフィ装置および冷却方法	2020年 6月11日
特表 2020-516948	測定方法、デバイス製造方法、計測装置およびリソグラフィシステム	2020年 6月11日
特表 2020-517058	荷電粒子源モジュール、荷電粒子源モジュールを備えた露光システム、荷電粒子源配置、半導体デバイスを製造する方法、及びターゲットを検査する方法	2020年 6月11日
特表 2020-514806	極紫外光源の光パルス発生	2020年 5月21日
特表 2020-514816	ベアリングデバイス、磁気重力補償器、振動絶縁システム、リソグラフィ装置、およびスプリング	2020年 5月21日
特表 2020-515028	基板の特性を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、及びデバイス製造方法	2020年 5月21日
特表 2020-515210	フィードスルーデバイス及び信号導体経路構成	2020年 5月21日
特表 2020-513113	リソグラフィ方法及び装置	2020年 4月30日
特表 2020-512551	位置測定システム、ゼロ調整方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2020年 4月23日
特表 2020-512573	極端紫外線光源のためのＥＵＶクリーニングシステム及びその方法	2020年 4月23日
特表 2020-512577	極端紫外線光源のためのメトロロジシステム	2020年 4月23日
特表 2020-512582	基板の応力を決定する方法、リソグラフィプロセス、リソグラフィ装置、及びコンピュータプログラム製品を制御するための制御システム	2020年 4月23日
特表 2020-510853	リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2020年 4月 9日
特表 2020-510856	機械学習によるプロセスモデルの決定方法	2020年 4月 9日
特表 2020-510880	センサマークおよびセンサマークの製造方法	2020年 4月 9日

140 件中 91-105 件を表示

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2020-516942 2020-516948 2020-517058 2020-514806 2020-514816 2020-515028 2020-515210 2020-513113 2020-512551 2020-512573 2020-512577 2020-512582 2020-510853 2020-510856 2020-510880

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