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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第286位 138件
(2019年:第272位 151件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第237位 122件
(2019年:第255位 108件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6799645 | レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット | 2020年12月16日 | |
特許 6800246 | ステージシステム、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2020年12月16日 | |
特許 6798017 | 基板にわたってパラメータ変動を修正する処理装置及び方法 | 2020年12月 9日 | |
特許 6798987 | エンコーダ、位置測定システム、及びリソグラフィ装置 | 2020年12月 9日 | |
特許 6793840 | メトロロジ方法、装置、及びコンピュータプログラム | 2020年12月 2日 | |
特許 6788678 | リソグラフィ装置、基板をアンロードする方法、及び基板をロードする方法 | 2020年11月25日 | |
特許 6790172 | 相互レシピ整合性に基づくレシピ選択 | 2020年11月25日 | |
特許 6792572 | リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置 | 2020年11月25日 | |
特許 6785993 | プロセスフィンガープリントのセットを維持する方法 | 2020年11月18日 | |
特許 6786588 | 光学要素を洗浄するための制御された流体流 | 2020年11月18日 | |
特許 6782769 | 2次元又は3次元の形状の階層的表現 | 2020年11月11日 | |
特許 6782775 | 繰り返し率依存の性能変数のオンライン較正 | 2020年11月11日 | |
特許 6782784 | パターニングプロセスパラメータを決定する方法及び装置 | 2020年11月11日 | |
特許 6784737 | レーザ生成プラズマEUV光源におけるソース材料送出の装置及び方法 | 2020年11月11日 | |
特許 6784757 | リソグラフィ装置用のペリクルを製造する方法、リソグラフィ装置用のペリクル、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、ペリクルを処理するための装置、及びペリクルを処理する方法 | 2020年11月11日 |
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6799645 6800246 6798017 6798987 6793840 6788678 6790172 6792572 6785993 6786588 6782769 6782775 6782784 6784737 6784757
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