特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第258位　138件（2019年：第249位　151件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第236位　122件（2019年：第255位　108件）

（ランキング更新日：2026年10月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6800246	ステージシステム、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2020年12月16日
特許 6799645	レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット	2020年12月16日
特許 6798987	エンコーダ、位置測定システム、及びリソグラフィ装置	2020年12月 9日
特許 6798017	基板にわたってパラメータ変動を修正する処理装置及び方法	2020年12月 9日
特許 6793840	メトロロジ方法、装置、及びコンピュータプログラム	2020年12月 2日
特許 6792572	リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置	2020年11月25日
特許 6790172	相互レシピ整合性に基づくレシピ選択	2020年11月25日
特許 6788678	リソグラフィ装置、基板をアンロードする方法、及び基板をロードする方法	2020年11月25日
特許 6786588	光学要素を洗浄するための制御された流体流	2020年11月18日
特許 6785993	プロセスフィンガープリントのセットを維持する方法	2020年11月18日
特許 6784757	リソグラフィ装置用のペリクルを製造する方法、リソグラフィ装置用のペリクル、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、ペリクルを処理するための装置、及びペリクルを処理する方法	2020年11月11日
特許 6782769	２次元又は３次元の形状の階層的表現	2020年11月11日
特許 6782775	繰り返し率依存の性能変数のオンライン較正	2020年11月11日
特許 6784737	レーザ生成プラズマＥＵＶ光源におけるソース材料送出の装置及び方法	2020年11月11日
特許 6782784	パターニングプロセスパラメータを決定する方法及び装置	2020年11月11日

126 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6800246 6799645 6798987 6798017 6793840 6792572 6790172 6788678 6786588 6785993 6784757 6782769 6782775 6784737 6782784

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数