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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6799645	レーザ生成プラズマ極端紫外線光源のターゲット	2020年12月16日
特許 6800246	ステージシステム、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2020年12月16日
特許 6798017	基板にわたってパラメータ変動を修正する処理装置及び方法	2020年12月 9日
特許 6798987	エンコーダ、位置測定システム、及びリソグラフィ装置	2020年12月 9日
特許 6793840	メトロロジ方法、装置、及びコンピュータプログラム	2020年12月 2日
特許 6788678	リソグラフィ装置、基板をアンロードする方法、及び基板をロードする方法	2020年11月25日
特許 6790172	相互レシピ整合性に基づくレシピ選択	2020年11月25日
特許 6792572	リソグラフィ方法およびリソグラフィ装置	2020年11月25日
特許 6785993	プロセスフィンガープリントのセットを維持する方法	2020年11月18日
特許 6786588	光学要素を洗浄するための制御された流体流	2020年11月18日
特許 6782769	２次元又は３次元の形状の階層的表現	2020年11月11日
特許 6782775	繰り返し率依存の性能変数のオンライン較正	2020年11月11日
特許 6782784	パターニングプロセスパラメータを決定する方法及び装置	2020年11月11日
特許 6784737	レーザ生成プラズマＥＵＶ光源におけるソース材料送出の装置及び方法	2020年11月11日
特許 6784757	リソグラフィ装置用のペリクルを製造する方法、リソグラフィ装置用のペリクル、リソグラフィ装置、デバイス製造方法、ペリクルを処理するための装置、及びペリクルを処理する方法	2020年11月11日

126 件中 1-15 件を表示

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6799645 6800246 6798017 6798987 6793840 6788678 6790172 6792572 6785993 6786588 6782769 6782775 6782784 6784737 6784757

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