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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第286位　138件（2019年：第272位　151件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第237位　122件（2019年：第255位　108件）

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-505651	パターンの位置決め精度を高めるための方法及びシステム	2020年 2月20日
特開 2020-24451	基板ホルダ及び基板ホルダ製造方法	2020年 2月13日
特開 2020-24470	装置	2020年 2月13日
特表 2020-504321	リソグラフィプロセスおよびリソグラフィ装置、ならびに検査プロセスおよび検査装置	2020年 2月 6日
特表 2020-504322	誘導デバイス及び関連システム	2020年 2月 6日
特表 2020-503557	調整アセンブリ及び調整アセンブリを備える基板露光システム	2020年 1月30日
特表 2020-503644	複数の荷電粒子ビームを使用する装置	2020年 1月30日
特開 2020-16894	極端紫外光源用搬送システム	2020年 1月30日
特開 2020-16898	アライメントシステム	2020年 1月30日
特表 2020-502568	リソグラフィ装置、流体ハンドリング構造、およびデバイス製造方法	2020年 1月23日
特表 2020-502570	光学デバイスおよび関連システム	2020年 1月23日
特表 2020-502580	計測センサ、リソグラフィ装置および内でのデバイス製造方法	2020年 1月23日
特表 2020-502583	剥離耐性を向上させた上部層を有するオブジェクトを備えたリソグラフィ装置	2020年 1月23日
特開 2020-13140	リソグラフィ装置	2020年 1月23日
特表 2020-501181	測定方法の性能を予測するための方法及び装置、測定方法及び装置	2020年 1月16日

140 件中 121-135 件を表示

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2020-505651 2020-24451 2020-24470 2020-504321 2020-504322 2020-503557 2020-503644 2020-16894 2020-16898 2020-502568 2020-502570 2020-502580 2020-502583 2020-13140 2020-501181

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