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日新イオン機器株式会社
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第1876位 11件
（
2024年：第1269位 18件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第3537位 4件
（2024年：第2208位 8件）
（ランキング更新日：2026年10月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日新イオン機器株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2025-183879 | 電極洗浄方法、イオン源 | 2025年12月17日 | |
| 特開 2025-178055 | イオン源 | 2025年12月 5日 | |
| 特開 2025-162245 | 基板処理装置 | 2025年10月27日 | |
| 特開 2025-155623 | イオン源 | 2025年10月14日 | |
| 特開 2025-153180 | ウェーハ処理装置、静電吸着方法 | 2025年10月10日 | |
| 特開 2025-146048 | イオン注入装置 | 2025年10月 3日 | |
| 特開 2025-129107 | 気化器、イオン源 | 2025年 9月 4日 | |
| 特開 2025-121528 | イオン注入装置 | 2025年 8月20日 | |
| 特開 2025-46011 | 駆動装置および真空装置 | 2025年 4月 2日 | |
| 特開 2025-24386 | 気化器、イオン源 | 2025年 2月20日 | |
| 特開 2025-15945 | ウェーハ固定方法、半導体製造装置 | 2025年 1月31日 |
11 件中 1-11 件を表示
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2025-183879 2025-178055 2025-162245 2025-155623 2025-153180 2025-146048 2025-129107 2025-121528 2025-46011 2025-24386 2025-15945
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