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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第3677位 5件
（
2020年：第2497位 8件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第2016位 8件
（2020年：第1660位 10件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ホールディング エヌ．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6917472 | メトロロジセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法 | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6918926 | 装置マークのインシチュプリンティングを含む計測方法及び対応する装置 | 2021年 8月11日 | |
| 特許 6903133 | 複数イメージ粒子検出のシステム及び方法 | 2021年 7月14日 | |
| 特許 6876151 | 基板及び基板を使用する方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6873271 | アライメントシステムにおける２次元アライメントのためのアライメントマーク | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6871251 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2021年 5月12日 | |
| 特許 6854327 | リソグラフィ装置 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6845305 | 位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6837159 | 反射防止コーティング | 2021年 3月 3日 | |
| 特許 6812464 | インライン補正のための適応フィルタ | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6812536 | 検査システムにおける合焦のための方法及びデバイス | 2021年 1月13日 | |
| 特許 6806841 | 基板支持体、基板支持ロケーションに基板を搭載するための方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2021年 1月 6日 | |
| 特許 6808041 | メトロロジツール及びメトロロジツールを使用する方法 | 2021年 1月 6日 |
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6917472 6918926 6903133 6876151 6873271 6871251 6854327 6845305 6837159 6812464 6812536 6806841 6808041
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