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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第194位 224件
（
2017年：第138位 386件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第121位 246件
（2017年：第90位 339件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6434407 | 自動分析装置 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6434617 | プラズマ処理装置およびそれを用いたプラズマ処理方法 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6435135 | プラズマ処理装置 | 2018年12月 5日 | |
| 特許 6430889 | 真空処理装置およびその運転方法 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6431792 | ステージ装置、ラマンナノポアＤＮＡシーケンサ、および光学顕微鏡装置 | 2018年11月28日 | |
| 特許 6426569 | 検体検査システム | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427271 | 超音波洗浄器およびこれを用いた自動分析装置 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427571 | パターン測定方法、及びパターン測定装置 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427573 | 液体攪拌方法 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6427601 | イオンミリングのマスク位置調整方法、電子顕微鏡およびマスク調整装置 | 2018年11月21日 | |
| 特許 6419722 | 自動分析装置及び分析方法 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6422824 | 検体前処理方法及び検体前処理装置 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6423011 | パターン測定装置及び欠陥検査装置 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6424024 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2018年11月14日 | |
| 特許 6424049 | プラズマ処理装置 | 2018年11月14日 |
248 件中 16-30 件を表示
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6434407 6434617 6435135 6430889 6431792 6426569 6427271 6427571 6427573 6427601 6419722 6422824 6423011 6424024 6424049
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
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