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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第126位 332件
（
2020年：第191位 225件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第118位 240件
（2020年：第127位 223件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6877133 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877466 | ナノポアを用いた電流計測装置及び電流計測方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877522 | 半導体素子の製造方法及びプラズマ処理装置 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877531 | 検査装置 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877581 | プラズマ処理装置及びそれを用いた試料の処理方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877601 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の運転方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6877629 | 自動分析装置および自動分析装置の流路詰まり検出方法 | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6878593 | 体外診断システムの吸引プローブの洗浄方法、体外診断方法及び体外診断システム | 2021年 5月26日 | |
| 特許 6872429 | 荷電粒子線装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6872665 | 荷電粒子線装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6872670 | 寸法計測装置、寸法計測プログラム及び半導体製造システム | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6873295 | 自動分析装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6873317 | クロマトグラフィー質量分析方法およびクロマトグラフ質量分析装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6873781 | 自動分析装置 | 2021年 5月19日 | |
| 特許 6874182 | データ処理方法、データ処理装置および処理装置 | 2021年 5月19日 |
241 件中 136-150 件を表示
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6877133 6877466 6877522 6877531 6877581 6877601 6877629 6878593 6872429 6872665 6872670 6873295 6873317 6873781 6874182
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