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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第230位 125件
（
2025年：第204位 168件）
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第60位 332件
（
2025年：第80位 319件）
（ランキング更新日：2026年10月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7847968 | 生体試料測定装置 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7848340 | 自動分析装置 | 2026年 4月20日 | |
| 特許 7847496 | 自動分析装置 | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7847516 | ろ過装置、フィルタ固定治具、及びろ過方法 | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7847555 | 電解質分析装置、及び電解質分析装置の異常判定方法 | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7847642 | 自動分析装置 | 2026年 4月17日 | |
| 特許 7847075 | 欠陥観察方法、装置、およびプログラム | 2026年 4月16日 | |
| 特許 7847217 | プラズマ処理装置用部材の製造方法 | 2026年 4月16日 | |
| 特許 7846028 | 圧力センサモジュール、圧力センサモジュールの製造方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7846258 | 端末、半導体デバイス製造システムおよび表示方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7846259 | 半導体デバイス製造システム、サーバー及び半導体デバイス製造方法 | 2026年 4月14日 | |
| 特許 7844378 | 品質管理装置、品質管理システム、品質管理プログラムおよび品質管理方法 | 2026年 4月13日 | |
| 特許 7843676 | 照射位置確認支援装置、照射位置確認支援方法、および照射位置確認支援プログラム | 2026年 4月10日 | |
| 特許 7843853 | 容器保管装置 | 2026年 4月10日 | |
| 特許 7843856 | 自動分析装置及び自動分析システム | 2026年 4月10日 |
335 件中 211-225 件を表示
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7847968 7848340 7847496 7847516 7847555 7847642 7847075 7847217 7846028 7846258 7846259 7844378 7843676 7843853 7843856
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