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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第150位 281件
(2020年:第163位 266件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第114位 242件
(2020年:第151位 191件)
(ランキング更新日:2025年6月10日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2021-502520 | 流体中の渦をアクティブ制御するためのシステムおよび方法 | 2021年 1月28日 | |
特開 2021-8658 | AM装置 | 2021年 1月28日 | |
特開 2021-8810 | 悪臭防止型排水設備 | 2021年 1月28日 | |
特開 2021-8855 | ポンプ装置、ポンプ装置の制御方法及びポンプシステム | 2021年 1月28日 | |
特開 2021-9979 | 気液分離装置、研磨装置、研磨装置のメンテナンス方法 | 2021年 1月28日 | |
特開 2021-7073 | 電子ビーム照射装置 | 2021年 1月21日 | |
特開 2021-3761 | 光学式表面監視装置の洗浄方法 | 2021年 1月14日 | |
特開 2021-3789 | 光学式膜厚測定装置の最適な動作レシピを決定する方法、装置、およびシステム | 2021年 1月14日 | |
特開 2021-4506 | 排水機場 | 2021年 1月14日 | |
特開 2021-4605 | ポンプシステム、制御装置、部品 | 2021年 1月14日 | |
特開 2021-5738 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法ならびに基板洗浄装置用のロールスポンジ | 2021年 1月14日 | |
特開 2021-1738 | 放射性ヨウ素を含有する放射性物質汚染水の除染方法及び除染装置 | 2021年 1月 7日 | |
特開 2021-2507 | 電子線検査装置の二次光学系を評価する方法 | 2021年 1月 7日 | |
特開 2021-2551 | 液体供給装置の液抜き方法、液体供給装置 | 2021年 1月 7日 | |
特開 2021-2612 | 基板処理装置の揺動部品用のカバー、基板処理装置の揺動部品、および、基板処理装置 | 2021年 1月 7日 |
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2021-502520 2021-8658 2021-8810 2021-8855 2021-9979 2021-7073 2021-3761 2021-3789 2021-4506 2021-4605 2021-5738 2021-1738 2021-2507 2021-2551 2021-2612
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6月10日(火) -
6月16日(月) - 東京 大田
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6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月16日(月) - 東京 大田
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