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東京応化工業株式会社

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6868351	レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物	2021年 5月12日
特許 6869680	濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法	2021年 5月12日
特許 6871337	積層体の製造方法および基板の処理方法	2021年 5月12日
特許 6865047	インプリント用下層膜形成用組成物及びパターン形成方法	2021年 4月28日
特許 6865318	スルホニウム塩の合成方法	2021年 4月28日
特許 6866193	紫外線照射装置及び紫外線照射方法	2021年 4月28日
特許 6860978	感光性組成物	2021年 4月21日
特許 6861313	微粒子含有組成物	2021年 4月21日
特許 6861408	細胞培養用チップの製造方法	2021年 4月21日
特許 6863682	送液性が改善されたフォトリソグラフィー用薬液及びこれを含むレジスト組成物｛ＣＨＥＭＩＣＡＬ　ＦＯＲ　ＰＨＯＴＯＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＹ　ＷＩＴＨ　ＩＭＰＲＯＶＥＤ　ＬＩＱＵＩＤ　ＴＲＡＮＳＦＥＲ　ＰＲＯＰＥＲＴＹ　ＡＮＤ　ＲＥＳＩＳＴ　ＣＯＭＰＯＳＩＴＩＯＮ　ＣＯＭＰＲＩＳＩＮＧ　ＴＨＥ　ＳＡＭＥ｝	2021年 4月21日
特許 6858209	リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法	2021年 4月14日
特許 6858902	配線基板用積層体、配線基板、及び配線基板用積層体の製造方法	2021年 4月14日
特許 6856367	感光性組成物、硬化膜、発光表示素子用の発光層、発光表示素子、及び発光層の形成方法	2021年 4月 7日
特許 6850533	層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法、並びにデバイス	2021年 3月31日
特許 6850567	レジスト組成物及びレジストパターン形成方法	2021年 3月31日

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6868351 6869680 6871337 6865047 6865318 6866193 6860978 6861313 6861408 6863682 6858209 6858902 6856367 6850533 6850567

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