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東京応化工業株式会社

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　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第307位　125件（2020年：第332位　110件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第260位　110件（2020年：第264位　105件）

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東京応化工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6832365	洗浄液及び基板を洗浄する方法	2021年 2月24日
特許 6832462	接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法	2021年 2月24日
特許 6832463	情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム	2021年 2月24日
特許 6835848	液体の精製方法、及び多孔質膜の製造方法	2021年 2月24日
特許 6827372	パターン形成方法	2021年 2月10日
特許 6823992	レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物	2021年 2月 3日
特許 6823997	着色剤分散液、感光性樹脂組成物、硬化物、有機ＥＬ素子、パターンの形成方法、及び感光性樹脂組成物の製造方法	2021年 2月 3日
特許 6825870	感光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法	2021年 2月 3日
特許 6826361	絶縁膜形成用感光性組成物、及び絶縁膜パターンの形成方法	2021年 2月 3日
特許 6814535	レジストパターン形成方法	2021年 1月20日
特許 6811004	マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物	2021年 1月13日
特許 6811247	洗浄組成物、洗浄方法、及び半導体の製造方法	2021年 1月13日
特許 6811957	相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法	2021年 1月13日
特許 6813326	レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法	2021年 1月13日
特許 6813384	樹脂組成物、硬化物の製造方法、硬化物、フレキシブル基板、及びフレキシブルディスプレイ	2021年 1月13日

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6832365 6832462 6832463 6835848 6827372 6823992 6823997 6825870 6826361 6814535 6811004 6811247 6811957 6813326 6813384

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