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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第891位 30件
（
2016年：第763位 38件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第723位 32件
（
2016年：第808位 29件）
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6118846 | 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた試料加工方法 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6116307 | 集束イオンビーム装置 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6116303 | 集束イオンビーム装置 | 2017年 4月19日 | |
| 特許 6114319 | 集束イオンビーム装置及び断面加工観察方法 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6112930 | ガスイオン源、及び集束イオンビーム装置 | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6112929 | 集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビームを用いた試料の加工コンピュータプログラム | 2017年 4月12日 | |
| 特許 6108674 | 荷電粒子ビーム装置及び試料搬送装置 | 2017年 4月 5日 | |
| 特許 6105530 | 自動試料片作製装置 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6105204 | ＴＥＭ観察用試料作製方法 | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6104667 | アクチュエータの位置算出装置、位置算出方法及び位置算出プログラム | 2017年 3月29日 | |
| 特許 6085150 | 試料作製装置及び試料作製方法 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6085132 | 結晶解析装置、複合荷電粒子ビーム装置及び結晶解析方法 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6082634 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6081260 | 蛍光Ｘ線分析装置 | 2017年 2月15日 | |
| 特許 6062628 | 薄膜試料作製装置及び方法 | 2017年 1月18日 |
32 件中 16-30 件を表示
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6118846 6116307 6116303 6114319 6112930 6112929 6108674 6105530 6105204 6104667 6085150 6085132 6082634 6081260 6062628
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