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株式会社日立ハイテクサイエンス
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第886位 33件
（
2018年：第838位 33件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第729位 30件
（
2018年：第744位 29件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクサイエンスの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6516320 | 放射線分析装置 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6516569 | 走査プローブ顕微鏡 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6517532 | 荷電粒子ビーム装置 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6512980 | Ｘ線透過検査装置及びＸ線透過検査方法 | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6510245 | 放射線分析装置 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6510369 | 搬送装置、真空装置および荷電粒子ビーム装置 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6505166 | 発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6505167 | 質量分析装置及び質量分析方法 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6505268 | 質量分析装置及び質量分析方法 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6490917 | 修正装置 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6490938 | 断面加工方法、断面加工装置 | 2019年 3月27日 | |
| 特許 6487225 | 荷電粒子ビーム装置および欠陥検査システム | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6487294 | 複合荷電粒子ビーム装置 | 2019年 3月20日 | |
| 特許 6476020 | 誘導結合プラズマ発生装置及び誘導結合プラズマ分析装置 | 2019年 2月27日 | |
| 特許 6476040 | シーケンシャル型ＩＣＰ発光分光分析装置および測定波長補正方法 | 2019年 2月27日 |
30 件中 16-30 件を表示
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6516320 6516569 6517532 6512980 6510245 6510369 6505166 6505167 6505268 6490917 6490938 6487225 6487294 6476020 6476040
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