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株式会社SUMCO

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  2011年 出願公開件数ランキング    第195位 221件 下降2010年:第150位 334件)

  2011年 特許取得件数ランキング    第419位 79件 上昇2010年:第455位 62件)

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特開 2011-54622 シリコン基板とその製造方法 2011年 3月17日
特開 2011-51806 単結晶シリコンの製造方法 2011年 3月17日
特開 2011-51805 単結晶シリコンの製造方法 2011年 3月17日
特開 2011-54784 ボロンドープp型シリコン中の鉄濃度分析における定量分析限界決定方法 2011年 3月17日
特開 2011-53090 光散乱式粒子径測定装置の校正線の作成方法 2011年 3月17日
特開 2011-53085 ウェーハ表面のLPD検出方法 2011年 3月17日
特開 2011-54879 裏面照射型イメージセンサ用エピタキシャル基板およびその製造方法。 2011年 3月17日
特開 2011-54763 裏面照射型イメージセンサ用エピタキシャル基板およびその製造方法 2011年 3月17日
特開 2011-54734 裏面照射型イメージセンサ用エピタキシャル基板およびその製造方法。 2011年 3月17日
特開 2011-54704 貼り合わせウェーハの製造方法 2011年 3月17日
特開 2011-54691 半導体ウェーハの表面または表層評価方法 2011年 3月17日
特開 2011-54657 裏面照射型固体撮像素子用ウェーハの製造方法 2011年 3月17日
特開 2011-47828 光散乱式粒子径測定装置の校正曲線の作成方法 2011年 3月10日
特開 2011-49522 エピタキシャルウェーハの評価方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 2011年 3月10日
特開 2011-44590 シリコンウェーハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2011年 3月 3日

221 件中 151-165 件を表示

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2011-54622 2011-51806 2011-51805 2011-54784 2011-53090 2011-53085 2011-54879 2011-54763 2011-54734 2011-54704 2011-54691 2011-54657 2011-47828 2011-49522 2011-44590

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