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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第690位 5件
(
2025年:第608位 43件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第811位 3件
(
2025年:第355位 75件)
(ランキング更新日:2026年2月13日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2026-13587 | カバー装置、処理装置および処理方法 | 2026年 1月29日 | |
| 特開 2026-10457 | ワークの洗浄装置およびワークの洗浄方法 | 2026年 1月22日 | |
| 特開 2026-5705 | 面取り形状判定方法、面取り形状判定装置、および、面取りシステム | 2026年 1月16日 | |
| 特開 2026-2325 | 半導体ウェーハの測定用ステージ、および、半導体ウェーハの欠陥高さ測定装置 | 2026年 1月 8日 | |
| 特開 2026-2326 | エピタキシャルウェーハの欠陥高さ測定方法、および、欠陥高さ測定装置 | 2026年 1月 8日 |
5 件中 1-5 件を表示
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2026-13587 2026-10457 2026-5705 2026-2325 2026-2326
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