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■ 2014年 出願公開件数ランキング 件
(
2013年: 件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 件
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2013年: 件)
(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2014-239184 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2014年12月18日 | |
| 特開 2014-236147 | 貼合せSOIウェーハの製造方法 | 2014年12月15日 | |
| 特開 2014-225699 | 貼合せSOIウェーハの製造方法 | 2014年12月 4日 | |
| 特開 2014-201468 | エピタキシャルシリコンウェーハおよびその製造方法 | 2014年10月27日 | |
| 特開 2014-187387 | シリコンウェーハ及びその製造方法、並びに、半導体デバイスの製造方法 | 2014年10月 2日 | |
| 特開 2014-181930 | 人頭型気流試験装置及び該装置を用いた防塵用具の品質検査を行う方法 | 2014年 9月29日 | |
| 特開 2014-166677 | ワークの研磨装置 | 2014年 9月11日 | |
| 特開 2014-160784 | エピタキシャルシリコンウェーハ | 2014年 9月 4日 | |
| 特開 2014-159367 | シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 | 2014年 9月 4日 | |
| 特開 2014-151963 | ウェーハ収納容器梱包用緩衝材 | 2014年 8月25日 | |
| 特開 2014-143325 | 半導体ウェーハの金属汚染評価方法および半導体ウェーハの製造方法 | 2014年 8月 7日 | |
| 再表 2012-157162 | 半導体エピタキシャルウェーハの製造方法、半導体エピタキシャルウェーハ、および固体撮像素子の製造方法 | 2014年 7月31日 | |
| 再表 2012-137822 | 単結晶引上げ装置の結晶保持機構および単結晶インゴット製造方法 | 2014年 7月28日 | |
| 再表 2012-131888 | 半導体結晶製造装置用排気通路のクリーニング装置及びそのクリーニング方法 | 2014年 7月24日 | |
| 特開 2014-129236 | シリコン単結晶の欠陥解析方法 | 2014年 7月10日 |
41 件中 1-15 件を表示
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2014-239184 2014-236147 2014-225699 2014-201468 2014-187387 2014-181930 2014-166677 2014-160784 2014-159367 2014-151963 2014-143325 2012-157162 2012-137822 2012-131888 2014-129236
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10月16日(金) - 東京 千代田区
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生成AIを活用した技術&知財戦略の策定方法-生成AIを活用したアイデア発想とパテントマップ作成による勝てる技術&知財戦略の実践方法-
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〜発明が生まれる開発現場の知財力を強化する~一枚図解でわかる 新規性・進歩性 ──発明とは何なのかを理解して、その先のイノベーションへ!
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公正取引委員会 も注視する“不当なノウハウ流出”の現場と対策セミナー 「電子公証サービス」で証拠を残す 共同研究や取引交渉で負けない知財戦略
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10月22日(木) - オンライン
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10月23日(金) - 大阪 大阪市
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