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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第195位 221件 (2010年:第150位 334件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第419位 79件 (2010年:第455位 62件)
(ランキング更新日:2024年11月29日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-29355 | レーザマーク付き半導体ウェーハの製造方法 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-25371 | ワイヤーソー用ローラー | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29361 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29317 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-27430 | シリコンウェーハの機械的強度測定装置および測定方法 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29618 | SIMOXウェーハの製造方法、SIMOXウェーハ | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29486 | ウェーハ表面処理方法 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-29225 | 半導体ウェーハ支持方法,半導体ウェーハ支持用ピン及び半導体ウェーハ支持装置 | 2011年 2月10日 | |
特開 2011-23641 | エピタキシャルウェーハ用サセプタ、およびその製造方法、並びにそれを用いたエピタキシャル成長装置 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23563 | シリコンウェーハの処理装置 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23533 | シリコン基板とその製造方法 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-20882 | シリコン単結晶の育成方法 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-23422 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2011年 2月 3日 | |
特開 2011-18739 | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 | 2011年 1月27日 | |
特開 2011-18725 | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 | 2011年 1月27日 |
221 件中 181-195 件を表示
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2011-29355 2011-25371 2011-29361 2011-29317 2011-27430 2011-29618 2011-29486 2011-29225 2011-23641 2011-23563 2011-23533 2011-20882 2011-23422 2011-18739 2011-18725
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11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月30日(土) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
新製品開発の「タネ」がみつかる!株式会社リコーによるシーズ発表会 ~リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか?~
12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ~ つながりを育む出会いの場(知財ネットワーク交流会)~
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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