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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第195位 221件 (2010年:第150位 334件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第419位 79件 (2010年:第455位 62件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2011-91387 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-91296 | 半導体ウェーハの研磨方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-91143 | シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-91092 | シリコンウェーハの製造方法 | 2011年 5月 6日 | |
特開 2011-86659 | スピン洗浄装置 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86704 | 半導体ウェーハ研磨システムおよび半導体ウェーハ研磨方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-84421 | シリコン単結晶の引上げ方法 | 2011年 4月28日 | |
再表 2009-75288 | シリコン基板とその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
再表 2009-75257 | シリコン基板とその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86828 | 半導体装置およびその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86706 | 裏面照射型固体撮像素子用エピタキシャル基板およびその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-86702 | 裏面照射型固体撮像素子用エピタキシャル基板およびその製造方法 | 2011年 4月28日 | |
特開 2011-82453 | 貼り合わせシリコンウェーハの製造方法及び製造装置 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82443 | エピタキシャルウェーハおよびその製造方法 | 2011年 4月21日 | |
特開 2011-82372 | シリコンウェーハの洗浄溶液およびそれを使用した洗浄方法 | 2011年 4月21日 |
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2011-91387 2011-91296 2011-91143 2011-91092 2011-86659 2011-86704 2011-84421 2009-75288 2009-75257 2011-86828 2011-86706 2011-86702 2011-82453 2011-82443 2011-82372
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11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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