日本電子株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第544位 64件
（
2011年：第547位 66件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第485位 70件
（2011年：第532位 60件）
（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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日本電子株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5069066 | 収差補正装置及び収差補正方法 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5069061 | 荷電粒子ビーム装置 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5069052 | ドーズ補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年11月 7日 | |
| 特許 5043699 | 走査プローブ顕微鏡 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043387 | 蛍光Ｘ線分析による被膜分析方法及び装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043526 | 電子顕微鏡のシャッタ装置 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043728 | 放射線計測用パルスプロセッサ | 2012年10月10日 | |
| 特許 5043296 | 色収差自動補正方法及び装置並びに試料表面観察装置及び試料表面観察装置の動作方法 | 2012年10月10日 | |
| 特許 5020794 | 試料断面作製装置の試料遮蔽機構 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5020648 | 大気圧イオン化法および試料保持装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5020742 | ＭＡＬＤＩイオン源を備えた質量分析装置およびＭＡＬＤＩイオン源用サンプルプレート | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5020836 | 試料断面作製装置の遮蔽材保持機構 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5020908 | イオンビーム加工装置 | 2012年 9月 5日 | |
| 特許 5002331 | プラズマ発生装置 | 2012年 8月15日 | |
| 特許 5002190 | 電子ビーム発生装置 | 2012年 8月15日 |
70 件中 16-30 件を表示
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5069066 5069061 5069052 5043699 5043387 5043526 5043728 5043296 5020794 5020648 5020742 5020836 5020908 5002331 5002190
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