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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件 (2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件 (2012年:第478位 72件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2013-535105 | 光学システム | 2013年 9月 9日 | |
特表 2013-535104 | リソグラフィマスクを使用して生成された放射分布の局所解像測定用装置および方法 | 2013年 9月 9日 | |
特表 2013-533633 | EUV露光装置 | 2013年 8月22日 | 共同出願 |
特表 2013-533632 | ファセットミラーデバイス | 2013年 8月22日 | |
特表 2013-533615 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2013年 8月22日 | |
特表 2013-532381 | EUVリソグラフィ用のマスク、EUVリソグラフィシステム、及びマスクの結像を最適化する方法 | 2013年 8月15日 | |
特開 2013-157636 | 反射コーティングを備えたミラー要素を有する投影対物系 | 2013年 8月15日 | |
特表 2013-530526 | マイクロリソグラフィ投影装置のための光学系 | 2013年 7月25日 | |
特表 2013-530534 | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を有する投影露光系 | 2013年 7月25日 | |
特表 2013-530517 | EUVリソグラフィ用ミラーの基板およびその製造方法 | 2013年 7月25日 | |
特開 2013-145892 | 光学要素ユニット | 2013年 7月25日 | |
特表 2013-527986 | リソグラフィ系の光学要素の操作を含むリソグラフィ系を作動させる方法 | 2013年 7月 4日 | |
特表 2013-527988 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2013年 7月 4日 | |
特表 2013-526071 | EUVコレクター | 2013年 6月20日 | |
特表 2013-526022 | 結像光学系及びそのような結像光学系を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置 | 2013年 6月20日 |
93 件中 31-45 件を表示
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2013-535105 2013-535104 2013-533633 2013-533632 2013-533615 2013-532381 2013-157636 2013-530526 2013-530534 2013-530517 2013-145892 2013-527986 2013-527988 2013-526071 2013-526022
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11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月29日(金) - 東京 港区
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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12月2日(月) -
12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
12月4日(水) -
12月4日(水) - 大阪 大阪市
12月4日(水) -
12月4日(水) -
12月5日(木) - 東京 港区
12月5日(木) -
12月5日(木) -
12月5日(木) - 大阪 大阪市
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12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
12月6日(金) -
12月2日(月) - 滋賀 草津市
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